Shanghai-Epoche-Material liefert hohe ReinheitTantalchlorid tacl599,95 % und 99,99 %
TantalchloridIstReinweißes Pulvermit SummenformelTaCl5.Molekulargewicht 35821, Schmelzpunkt 216 ℃, Siedepunkt 239 4 ℃, gelöst in Alkohol, Ether, Tetrachlorkohlenstoff und zur Reaktion mit Wasser.
Die Anwendungen:sind ferroelektrische Dünnfilme, organische Reaktionschlorierungsmittel, Tantaloxidbeschichtung, Herstellung von Tantalpulver mit hohem CV, Superkondensator usw
1. Auf der Oberfläche von elektronischen Bauteilen, Halbleiterbauelementen, Titan- und Metallnitrid-Elektroden sowie Metall-Wolfram-Oberflächen bildet sich eine starke Haftung mit einer Dicke von 0,1 μ M-Grad-Isolierfilm mit hoher Dielektrizitätskonstante.
2. In der Chlor-Alkali-Industrie, der elektrolytischen Kupferfolie, der Sauerstoffproduktionsindustrie, dem Recycling von elektrolytischen Anodenoberflächen und der Abwasserindustrie wird es mit Rutheniumverbindungen und Verbindungen der Platingruppe gemischt, um leitende Oxidfilme zu bilden, die Membranhaftung zu verbessern und die Elektrodenlebensdauer zu verlängern Lebensdauer um mehr als 5 Jahre.
3. Herstellung von ultrafeinem Tantalpentoxid.
Zusätzlich,Tantalpentachloridn-Butanol-Lösung und Tantalpentachlorid-Isopropanol-Lösung können geliefert werden. Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte
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Zeitpunkt der Veröffentlichung: 04.04.2023