Pwovizyon pou pri poud Indium Oxide In2O3 ak gwosè mikron ak gwosè nano

Pwovizyon pou pri poud Indium Oxide In2O3 ak gwosè mikron ak gwosè nano Imaj Prezantasyon
  • Pwovizyon pou pri poud Indium Oxide In2O3 ak gwosè mikron ak gwosè nano

Deskripsyon kout:

Modèl Index In2O3.20 In2O3.50
Gwosè patikil 10-30nm 30-60nm
Fòm esferik esferik
Pite (%) 99.9 99.9
Aparans limyè jòn poud limyè jòn poud
BET(m2/g) 20 ~ 30 15 ~ 25
En Dansite (g/cm3) 1.05 0.4 ~ 0.7


Pwodwi detay

Tags pwodwi

Deskripsyon Product

Index Modèl In2O3.20 In2O3.50
Gwosè patikil 10-30nm 30-60nm
Fòm Esferik Esferik
Pite (%) 99.9 99.9
Aparans Limyè jòn poud Limyè jòn poud
BET (m2/g) 20 ~ 30 15 ~ 25
Dansite esansyèl (g/cm3) 1.05 0.4 ~ 0.7
Anbalaj: 1kg / sak
  Estoke nan kondisyon sele, sèk ak fre, pa ekspoze a lè pou yon tan long, evite imidite.
Karakteristik: Endyòm oksid, endyòm idroksid se yon nouvo n-tip transparan semi-conducteurs fonksyonèl materyèl, ki gen yon bann entèdi lajè, yon ti rezistans ak yon aktivite katalitik segondè.aplikasyon.Anplis de sa nan fonksyon ki anwo yo, gwosè a nan patikil oksid Endyòm rive nan nivo nanomèt, osi byen ke efè a sifas, efè gwosè pwopòsyon, efè ti gwosè, ak macro efè tinèl pwopòsyon nan nanomateryèl.
Aplikasyon: Aditif pou ekran fliyoresan, vè, seramik, reyaktif chimik, ki ba-mèki ak mèki-gratis pil alkalin.Avèk devlopman kontinyèl nan syans ak teknoloji, aplikasyon an nan trioksid Endyòm nan ekspozisyon kristal likid, espesyalman nan objektif ITO, ap vin pi laj ak pi laj.
ATIK SPECIFICATIONS TXLT RXLULTS
Aparans Limyè jòn poud Limyè jòn poud
In2O3(%,Min) 99.99 99.995
Enpurte (%, Max)
Cu   0.8
Pb   2.0
Zn   0.5
Cd   1.0
Fe   3.0
Tl   1.0
Sn   3.0
As   0.3
Al   0.5
Mg   0.5
Ti   1.0
Sb   0.1
Co   0.1
K   0.3
Lòt endèks
Gwosè patikil (D50)   3-5μm

  • Previous:
  • Pwochen:

    • Pwodwi ki gen rapò

    Faktori ekipman pou Indium Powder CAS 7440-74-6 ak bon pri

    Faktori ekipman pou Indium Powder CAS 7440-74-6 ak...