IC-Lanthannitrid-LaN-Pulver
Merkmal vonLanthannitrid-Pulver
| Teilname | Hohe ReinheitLanthannitridPulver |
| MF | LaN |
| Reinheit | 99,9 % |
| Partikelgröße | -100 Maschen |
| Anwendung | Wird in der High-End-Elektronik, bei Sputtertargets, Leuchtstoffen, Keramikmaterialien, magnetischen Materialien, Halbleitermaterialien, Beschichtungen usw. verwendet. |
Spezifikation
| Teilname | LanthannitridPulver |
| Aussehen | Schießpulver |
| Reinheit | 99,9 % |
| Ca (Gew.-%) | 0,0011 |
| Fe (Gew.-%) | 0,0035 |
| Si (Gew.-%) | 0,0014 |
| C (Gew.-%) | 0,0012 |
| Al (Gew.-%) | 0,0016 |
| Mg (Gew.%) | 0,0009 |
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