Cas 24304-00-5 Nano Alúmanam Nitride AlN púdar
Gnéithe púdar AlN:
Tá ard-íonacht ag púdar AlN, dáileadh méid cáithníní raon cúng, achar dromchla sonrach níos mó, dlús mórchóir níos ísle agus airíonna múnlaithe insteallta níos fearr a mhúnlú.2. Úsáidtear púdar nana nítríde alúmanaim i ilchodach, agus tá dea-mheaitseáil aige leis an sileacain leathsheoltóra agus feabhsaíonn a chomhoiriúnacht comhéadan maith airíonna meicniúla agus seoltacht theirmeach ábhar ilchodach.
Sonraíocht púdar AlN:
| Mír | Íonachta | APS | Dath | Dlús toirte | Foirm chriostalagrafach | cion ocsaigine | Modh a dhéanamh | SSA |
| Púdar XL-AlN | 99% | 50nm | Liath | 0.05g/cm3 | Struchtúr heicseagánach | 0.8% | Plasma CVD | 105m2/g |
Feidhmchláir púdar AlN:
Púdar AlN a úsáidtear chun feabhas a chur ar fheidhmíocht roisín eapocsa I nana-phúdair nítríde alúmanam agus córas roisín eapocsa, nuair a shroicheann ábhar nana-cháithnín nítríde Alúmanam go 1% ~ 5%, méaduithe teochta aistrithe gloine agus sroicheann modúl leaisteachas an t-uasluach.Tá cur nana-phúdair nítríde Alúmanam le hábhair chumaisc roisín eapocsa go hiomlán difriúil ó mhicrea-ghráin nítríde Alúmanam a chur leis i struchtúr.De ghnáth cuirtear púdar AlN leis mar chineál gníomhaire athneartaithe agus déantar é a dháileadh go príomha idir slabhraí ábhar polaiméire.Maidir le comhordú neamhleor ar an dromchla agus ar achar mór dromchla sonrach, léiríonn púdar AlN gníomhaíocht an-láidir.Idir an dá linn, déantar cuid de ghráin nanacháithníní nítríde Alúmanam a dháileadh i spásáil slabhra polaiméire.I gcomparáid le micrea-gráin nítríde Alúmanam, tá sreabhach an-mhaith ag púdar AlN agus féadann sé déine, righneas agus traiciúlacht roisín eapocsa a fheabhsú den chuid is mó.
Púdar AlN a úsáidtear le haghaidh ábhar seoltaí teasa
Tugann an glóthach shilice cumaisc le púdar AlN, a bhfuil seoltacht super teirmeach aige, seoltacht teirmeach an-mhaith, insliú leictreach, teocht oibre inslithe leictreach níos leithne (-60 ℃ ~ -200 ℃), tiús níos ísle agus feidhmíocht oibríochta maith, agus is féidir é a bheith go forleathan. a úsáidtear sa mheán tarchurtha teirmeach de chomhpháirt leictreonach chun éifeachtacht oibre a fheabhsú, mar shampla filler radaitheora LAP, fuaime ard-chumhachta, comhpháirteanna Silicon inrialaithe, dé-óid, meán tarchurtha teirmeach sa seam agus mar sin de.
Is féidir le púdar AlN seoltacht theirmeach plaisteach a fheabhsú den chuid is mó.Trí nanacháithníní nítríde Alúmanam a chur le plaisteach de réir an chomhréir de 5% ~ 10% i mais, is féidir linn seoltacht theirmeach plaisteach a mhéadú ó 0.3W / (mk) go 0.5W / (mk), 16 huaire níos mó.I gcomparáid leis an líonadh seoltaí teasa (alúmana nó Maignéise) sa mhargadh, is féidir leis feabhas a chur ar airíonna meicniúla táirgí le méid níos lú.Faoi láthair, tá mais-phúdar AlN ceannaithe ag monaróirí gaolmhara agus seolfar an plaisteach seolta teasa nana de chineál nua chuig an margadh.
Oibríonn púdar AlN go han-mhaith i dé-ocsaíd sileacain agus bíonn claonadh ann scaipeadh i rubar.Faoin mbonn gan aon difríocht a dhéanamh ar fheidhmíocht mheicniúil rubair, (tá trialacha cruthaithe go bhféadfadh sé feabhas a chur ar fheidhmíocht mheicniúil rubair), is féidir leis seoltacht teasa rubair a fheabhsú den chuid is mó agus ní laghdóidh sé an slaodacht cosúil le ocsaídí eile le linn an phróisis cur leis. , agus ní gá ach méid an-bheag.Cuireadh i bhfeidhm go forleathan é ar innealtóireacht mhíleata, eitlíochta agus faisnéise.
