નેનો બિસ્મથ ox કસાઈડ BI2O3 પાવડર

ટૂંકા વર્ણન:

1. નામ: નેનો બિસ્મથ ox કસાઈડ BI2O3
2. શુદ્ધતા: 99.9% મિનિટ
3. એપ્રેક્ને: પીળો પાવડર
4. પાર્ટિકલ કદ: 50nm
5. એસએસએ: 25 એમ 2/જી

અમને ઇમેઇલ મોકલો

ઉત્પાદન વિગત

ઉત્પાદન ટ tag ગ્સ

ઉત્પાદન

સંક્ષિપ્ત પરિચય

1. નામ:વાંસબિસ્મથ ઓક્સાઇડBi2o3
2. શુદ્ધતા: 99.9% મિનિટ
3. એપ્રેક્ને: પીળો પાવડર
4. પાર્ટિકલ કદ: 50nm ， 80nm ， 1-3um
5. એસએસએ: 25 એમ 2/જી
6 પાર્ટિકલ મોર્ફોલોજી: ગોળાકાર
7. લૂઝ ડેન્સિટી: 0.65 ગ્રામ/સે.મી.
8. ટ્રુ ડેન્સિટી: 8.9 જી/સેમી 3

ઉત્પાદન	નમૂનો	ડી 50 （એનએમ）	શુદ્ધતા（%）	એસ.એસ.એ.2 એમ 2/જી）	જથ્થાબંધ ઘનતા （જી/સેમી 3））	ક્રિસ્ટલ ફોર્મ	રંગ
નેનો ગ્રેડ	Xl-Bi2o3-001	50	99.9	8.6	0.65	ગોળાકારતા	પીળું
સુપીરી	Xl-Bi2o3-002	1-3-UM	99.9	1.2	0.76	ગોળાકારતા	નારંગી પીળો
નોંધ	ગ્રાહકોની જરૂરિયાતો અનુસાર ઉત્પાદન શુદ્ધતા અને કણોનું કદ યોગ્ય રીતે સમાયોજિત કરો

મુખ્ય વિશેષતા

1. નેનોમીટર બિસ્મથ ox કસાઈડ પાવડરઉચ્ચ શુદ્ધતા, નાના કણોનું કદ, સમાન વિતરણ, વિશાળ વિશિષ્ટ સપાટી ક્ષેત્ર, ઉચ્ચ સપાટીની પ્રવૃત્તિ, ઓછી છૂટક ઘનતા અને ગેસ-તબક્કાની પદ્ધતિ દ્વારા તૈયાર કરવામાં આવે છે, જે બજારમાં ભીની રાસાયણિક પદ્ધતિ દ્વારા તૈયાર કરાયેલા સખત એગ્લોમેરેશન, મુશ્કેલ વિખેરી અને ઓછી શુદ્ધતાના ગેરફાયદાને દૂર કરે છે;

2.નેનોમીટર બિસ્મથ ટ્રાઇક્સાઇડ પાવડરઉચ્ચ શુદ્ધતા, ઓછી અશુદ્ધતા સામગ્રી, ગોળાકાર આકાર અને નાના વિશિષ્ટ સપાટી ક્ષેત્ર છે, જે ઇલેક્ટ્રોનિક ગ્રેડ પાવડર સામગ્રીની આવશ્યકતાઓને પૂર્ણ કરે છે અને તેનો ઉપયોગ ઇલેક્ટ્રોનિક્સ, કોટિંગ્સ અને સિરામિક સામગ્રીના ક્ષેત્રોમાં થઈ શકે છે.

નિયમઅઘડ

710 ઓસી ઉપર, ગલનબિસ્મથ ઓક્સાઇડમેટલ ox કસાઈડ્સને ક્ષીણ અથવા વિસર્જન કરી શકે છે. મુખ્ય હેતુ: ઇલેક્ટ્રોનિક્સ ઉદ્યોગ; દબાણ-સંવેદનશીલ રેઝિસ્ટર; મુખ્ય ડોપિંગ સામગ્રીની કેપેસિટીન્સ; દવા; કૃત્રિમ હાડકાની ઇમેજિંગ; ગ્લાસ;બિસ્મથ ઓક્સાઇડસિરામિક્સમાં ગ્લાસના રીફ્રેક્શનનું અનુક્રમણિકા વધી શકે છે અને સિરામિક સામગ્રીના પ્રભાવમાં નોંધપાત્ર સુધારો કરી શકે છે. તે "લીડ ગ્લેઝ" નો શ્રેષ્ઠ વિકલ્પ છે. પણ, ઉત્પ્રેરક; જીવાણુનાશક; ફાયરપ્રૂફિંગ કાગળો અને પોલિમર; ઉચ્ચ નોનલાઇનર સંવેદનશીલતા સામગ્રી; ચુંબક; રબર; નક્કર ઇલેક્ટ્રોલાઇટ્સ; ગ્લાસ અથવા પોર્સેલેઇનમાં લીડ ox કસાઈડનો અવેજી; સુવાવશરણ..