ಲೋಹದ ಹಾಫ್ನಿಯಂನ ಸೀಮಿತ ಜಾಗತಿಕ ಮೀಸಲು, ವ್ಯಾಪಕ ಶ್ರೇಣಿಯ ಡೌನ್‌ಸ್ಟ್ರೀಮ್ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳೊಂದಿಗೆ

ಹಫ್ನಿಯಮ್ಇತರ ಲೋಹಗಳೊಂದಿಗೆ ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸಬಹುದು, ಇದರಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚು ಪ್ರತಿನಿಧಿ ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಟ್ಯಾಂಟಲಮ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಪೆಂಟಕಾರ್ಬೈಡ್ ಟೆಟ್ರಾಟಂಟಲಮ್ ಮತ್ತು ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ (ಟಿಎ 4 ಹೆಚ್ಎಫ್‌ಸಿ 5), ಇದು ಹೆಚ್ಚಿನ ಕರಗುವ ಬಿಂದುವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಪೆಂಟಾಕಾರ್ಬೈಡ್ ಟೆಟ್ರಾಟಾಂಟಾಲಮ್ ಮತ್ತು ಹಾಫ್ನಿಯಂನ ಕರಗುವ ಬಿಂದುವು 4215 react ಅನ್ನು ತಲುಪಬಹುದು, ಇದು ಪ್ರಸ್ತುತ ಪ್ರಸಿದ್ಧವಾದ ವಸ್ತುವಾಗಿದೆ.

ಹಫ್ನಿಯಮ್, HF ರಾಸಾಯನಿಕ ಚಿಹ್ನೆಯೊಂದಿಗೆ, ಇದು ಪರಿವರ್ತನಾ ಲೋಹದ ವರ್ಗಕ್ಕೆ ಸೇರಿದ ಲೋಹೀಯ ಅಂಶವಾಗಿದೆ. ಇದರ ಧಾತುರೂಪದ ನೋಟವು ಬೆಳ್ಳಿ ಬೂದು ಮತ್ತು ಲೋಹೀಯ ಹೊಳಪನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಇದು 5.5 ರ MOHS ಗಡಸುತನವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, 2233 of ನ ಕರಗುವ ಬಿಂದು, ಮತ್ತು ಇದು ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ಆಗಿದೆ. ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಗಾಳಿಯಲ್ಲಿ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಲೇಪನವನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಅದರ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಕೋಣೆಯ ಉಷ್ಣಾಂಶದಲ್ಲಿ ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಪುಡಿಮಾಡಿದ ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಗಾಳಿಯಲ್ಲಿ ಸ್ವಯಂಪ್ರೇರಿತವಾಗಿ ಬೆಂಕಿಹೊತ್ತಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಆಮ್ಲಜನಕ ಮತ್ತು ಸಾರಜನಕದೊಂದಿಗೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸಬಹುದು. ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ನೀರಿನೊಂದಿಗೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸುವುದಿಲ್ಲ, ಹೈಡ್ರೋಕ್ಲೋರಿಕ್ ಆಮ್ಲ, ಸಲ್ಫ್ಯೂರಿಕ್ ಆಮ್ಲ ಮತ್ತು ಬಲವಾದ ಕ್ಷಾರೀಯ ದ್ರಾವಣಗಳಂತಹ ಆಮ್ಲಗಳನ್ನು ದುರ್ಬಲಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ. ಇದು ಆಕ್ವಾ ರೆಜಿಯಾ ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರೋಫ್ಲೋರಿಕ್ ಆಮ್ಲದಂತಹ ಬಲವಾದ ಆಮ್ಲಗಳಲ್ಲಿ ಕರಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ತುಕ್ಕು ನಿರೋಧಕತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.

ಅಂಶಹಫ್ನಿಯಮ್1923 ರಲ್ಲಿ ಪತ್ತೆಯಾಗಿದೆ. ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಭೂಮಿಯ ಹೊರಪದರದಲ್ಲಿ ಕಡಿಮೆ ಅಂಶವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಕೇವಲ 0.00045%ಮಾತ್ರ. ಇದು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಲೋಹೀಯ ಜಿರ್ಕೋನಿಯಂನೊಂದಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದೆ ಮತ್ತು ಪ್ರತ್ಯೇಕ ಅದಿರುಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿಲ್ಲ. ಬೆರಿಲಿಯಮ್ ಜಿರ್ಕಾನ್, ಜಿರ್ಕಾನ್ ಮತ್ತು ಇತರ ಖನಿಜಗಳಂತಹ ಹೆಚ್ಚಿನ ಜಿರ್ಕೋನಿಯಮ್ ಗಣಿಗಳಲ್ಲಿ ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಅನ್ನು ಕಾಣಬಹುದು. ಮೊದಲ ಎರಡು ವಿಧದ ಅದಿರುಗಳು ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಆದರೆ ಕಡಿಮೆ ನಿಕ್ಷೇಪಗಳ ಹೆಚ್ಚಿನ ಅಂಶವನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ, ಮತ್ತು ಜಿರ್ಕಾನ್ ಹಾಫ್ನಿಯಂನ ಮುಖ್ಯ ಮೂಲವಾಗಿದೆ. ಜಾಗತಿಕ ಮಟ್ಟದಲ್ಲಿ, ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಸಂಪನ್ಮೂಲಗಳ ಒಟ್ಟು ನಿಕ್ಷೇಪಗಳು 1 ಮಿಲಿಯನ್ ಟನ್‌ಗಳಿಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚು. ದೊಡ್ಡ ನಿಕ್ಷೇಪಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ದೇಶಗಳಲ್ಲಿ ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ದಕ್ಷಿಣ ಆಫ್ರಿಕಾ, ಆಸ್ಟ್ರೇಲಿಯಾ, ಯುನೈಟೆಡ್ ಸ್ಟೇಟ್ಸ್, ಬ್ರೆಜಿಲ್, ಭಾರತ ಮತ್ತು ಇತರ ಪ್ರದೇಶಗಳು ಸೇರಿವೆ. ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಗಣಿಗಳನ್ನು ಗುವಾಂಗ್ಕ್ಸಿ ಮತ್ತು ಚೀನಾದ ಇತರ ಪ್ರದೇಶಗಳಲ್ಲಿ ವಿತರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

1925 ರಲ್ಲಿ, ಸ್ವೀಡನ್ ಮತ್ತು ನೆದರ್ಲ್ಯಾಂಡ್ಸ್ನ ಇಬ್ಬರು ವಿಜ್ಞಾನಿಗಳು ಫ್ಲೋರಿನೇಟೆಡ್ ಸಂಕೀರ್ಣ ಉಪ್ಪು ಭಾಗಶಃ ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಣ ವಿಧಾನ ಮತ್ತು ಲೋಹದ ಸೋಡಿಯಂ ಕಡಿತ ವಿಧಾನವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಅಂಶವನ್ನು ಮತ್ತು ತಯಾರಿಸಿದ ಲೋಹದ ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಅನ್ನು ಕಂಡುಹಿಡಿದರು. ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಎರಡು ಸ್ಫಟಿಕ ರಚನೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು 1300 ℃ ± α- ತಾಪಮಾನವು 1300 ಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿರುವಾಗ, ಇದು ದೇಹ ಕೇಂದ್ರಿತ ಘನ ಆಕಾರ € β- ಸಮೀಕರಣ) ಎಂದು ಪ್ರಸ್ತುತಪಡಿಸುತ್ತದೆ. ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಆರು ಸ್ಥಿರ ಐಸೊಟೋಪ್‌ಗಳನ್ನು ಸಹ ಹೊಂದಿದೆ, ಅವುಗಳೆಂದರೆ ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ 174, ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ 176, ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ 177, ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ 178, ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ 179, ಮತ್ತು ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ 180. ಜಾಗತಿಕ ಮಟ್ಟದಲ್ಲಿ, ಯುನೈಟೆಡ್ ಸ್ಟೇಟ್ಸ್ ಮತ್ತು ಫ್ರಾನ್ಸ್ ಲೋಹದ ಹಾಫ್ನಿಯಂನ ಮುಖ್ಯ ಉತ್ಪಾದಕರು.

ಹಾಫ್ನಿಯಂನ ಮುಖ್ಯ ಸಂಯುಕ್ತಗಳು ಸೇರಿವೆಹಫ್ನಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸಿಡ್ಇ (HFO2), ಹಫ್ನಿಯಮ್ ಟೆಟ್ರಾಕ್ಲೋರೈಡ್ (Hfcl4), ಮತ್ತು ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸೈಡ್ (H4HFO4). ಲೋಹವನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ಮತ್ತು ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಟೆಟ್ರಾಕ್ಲೋರೈಡ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಬಹುದುಹಫ್ನಿಯಮ್, ಹಫ್ನಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಸಹ ಬಳಸಬಹುದು, ಮತ್ತು ವಿವಿಧ ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಸಂಯುಕ್ತಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸೈಡ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಬಹುದು. ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಇತರ ಲೋಹಗಳೊಂದಿಗೆ ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸಬಲ್ಲದು, ಇದರಲ್ಲಿ ಅತ್ಯಂತ ಪ್ರತಿನಿಧಿಯೆಂದರೆ ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಟ್ಯಾಂಟಲಮ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಪೆಂಟಕಾರ್ಬೈಡ್ ಟೆಟ್ರಾಟಾಂಟಾಲಮ್ ಮತ್ತು ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ (ಟಿಎ 4 ಎಚ್‌ಎಫ್‌ಸಿ 5), ಇದು ಹೆಚ್ಚಿನ ಕರಗುವ ಬಿಂದುವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಪೆಂಟಾಕಾರ್ಬೈಡ್ ಟೆಟ್ರಾಟಾಂಟಾಲಮ್ ಮತ್ತು ಹಾಫ್ನಿಯಂನ ಕರಗುವ ಬಿಂದುವು 4215 react ಅನ್ನು ತಲುಪಬಹುದು, ಇದು ಪ್ರಸ್ತುತ ಪ್ರಸಿದ್ಧವಾದ ವಸ್ತುವಾಗಿದೆ.

ಕ್ಸಿನ್ಸಿಜಿ ಇಂಡಸ್ಟ್ರಿ ರಿಸರ್ಚ್ ಸೆಂಟರ್ ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡಿದ "2022-2026 ಡೀಪ್ ಮಾರ್ಕೆಟ್ ರಿಸರ್ಚ್ ಮತ್ತು ಹೂಡಿಕೆ ತಂತ್ರ ಸಲಹೆಗಳ ವರದಿಯ ಪ್ರಕಾರ, ಲೋಹದ ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಅನ್ನು ಪ್ರಕಾಶಮಾನವಾದ ದೀಪದ ತಂತುಗಳು, ಎಕ್ಸರೆ ಟ್ಯೂಬ್ ಕ್ಯಾಥೋಡ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಪ್ರೊಸೆಸರ್ ಗೇಟ್ ಡೈಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ಸ್ ತಯಾರಿಸಲು ಬಳಸಬಹುದು; ಹೈ-ವೋಲ್ಟೇಜ್ ಡಿಸ್ಚಾರ್ಜ್ ಟ್ಯೂಬ್ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಮತ್ತು ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹವನ್ನು ಬಳಸಬಹುದು, ಆದರೆ ಪ್ರತಿರೋಧ ಸಾಮಗ್ರಿಗಳು ಮತ್ತು ಟೂಲ್ ಸ್ಟೀಲ್‌ಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಟ್ಯಾಂಟಲಮ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹವನ್ನು ಬಳಸಬಹುದು; ಕಾರ್ಬೈಡ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ (ಎಚ್ಎಫ್ಸಿ) ರಾಕೆಟ್ ನಳಿಕೆಗಳು ಮತ್ತು ವಿಮಾನ ಫಾರ್ವರ್ಡ್ ಪ್ರೊಟೆಕ್ಟಿವ್ ಲೇಯರ್‌ಗಳಿಗೆ ಬಳಸಬಹುದು, ಆದರೆ ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಬೋರೈಡ್ (ಎಚ್‌ಎಫ್‌ಬಿ 2) ಅನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ಮಿಶ್ರಲೋಹವಾಗಿ ಬಳಸಬಹುದು; ಇದರ ಜೊತೆಯಲ್ಲಿ, ಮೆಟಲ್ ಹ್ಯಾಫ್ನಿಯಮ್ ದೊಡ್ಡ ನ್ಯೂಟ್ರಾನ್ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಅಡ್ಡ-ವಿಭಾಗವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ಪರಮಾಣು ರಿಯಾಕ್ಟರ್‌ಗಳಿಗೆ ನಿಯಂತ್ರಣ ವಸ್ತು ಮತ್ತು ರಕ್ಷಣಾತ್ಮಕ ಸಾಧನವಾಗಿಯೂ ಬಳಸಬಹುದು.

ಕ್ಸಿನ್ಸಿಜಿಯ ಉದ್ಯಮ ವಿಶ್ಲೇಷಕರು ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಪ್ರತಿರೋಧ, ತುಕ್ಕು ನಿರೋಧಕತೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನ ಪ್ರತಿರೋಧ ಮತ್ತು ಸಂಸ್ಕರಣೆಯ ಸುಲಭತೆಯಿಂದಾಗಿ, ಹಾಫ್ನಿಯಮ್ ಲೋಹಗಳು, ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳು, ಸಂಯುಕ್ತಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ವಸ್ತುಗಳು, ಅಧಿಕ-ಸಮೃದ್ಧಿ ಪ್ರತಿರೋಧಕ ವಸ್ತುಗಳು, ಗಟ್ಟಿಯಾದ ಅಲೆಗಳ ವಸ್ತುಗಳು, ಮತ್ತು ಪರಮಾಣು ಸಾಮಗ್ರಿಗಳಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾದ ಕೆಳಮಟ್ಟದ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಎಂದು ಹೇಳಿದ್ದಾರೆ. ಹೊಸ ವಸ್ತುಗಳು, ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಮಾಹಿತಿ ಮತ್ತು ಏರೋಸ್ಪೇಸ್‌ನಂತಹ ಕೈಗಾರಿಕೆಗಳ ತ್ವರಿತ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯೊಂದಿಗೆ, ಹಾಫ್ನಿಯಂನ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳು ನಿರಂತರವಾಗಿ ವಿಸ್ತರಿಸುತ್ತಿವೆ ಮತ್ತು ಹೊಸ ಉತ್ಪನ್ನಗಳು ನಿರಂತರವಾಗಿ ಹೊರಹೊಮ್ಮುತ್ತಿವೆ. ಭವಿಷ್ಯದ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ ಭವಿಷ್ಯವು ಭರವಸೆಯಿದೆ.