د لوړ فعالیت نانو SiO سیلیکون مونو اکسایډ پاؤډر
د تولید ځانګړتیاوې
د ځانګړتیاووnano SiO د سیلیکون مونو اکساید پوډر
1. د ذرې اندازه کنټرول: 100nm-10μm د کنټرول وړ، د تنوع اړتیاو پوره کولو لپاره
2. لوړ پاکوالی: د سیلیکون په ذرو کې د سیلیکون سره د Si-P بانډ له 99.9٪ څخه ډیر او په مساوي ډول توزیع کیږي.
د غوښتنلیکnano SiO سیلیکون مونو اکسایدپوډر
1. د لیتیم آئن ثانوي بیټرۍ د انود موادو د مخکینیو لپاره د سیلیکون پر بنسټ انود موادو چمتو کول
2. د ښه سیرامیک مصنوعي خامو موادو په توګه، لکه سیلیکون نایټریډ، سیلیکون کاربایډ ښه سیرامیک پوډر خام مواد
سند:
هغه څه چې موږ یې چمتو کولی شو:
