మెటల్ హఫ్నియం యొక్క పరిమిత గ్లోబల్ రిజర్వ్స్, విస్తృత శ్రేణి దిగువ అనువర్తనాలతో

హఫ్నియంఇతర లోహాలతో మిశ్రమాలను ఏర్పరుస్తుంది, వీటిలో ఎక్కువ ప్రతినిధి హఫ్నియం టాంటాలమ్ మిశ్రమం, పెంటాకార్బైడ్ టెట్రాటానమ్ మరియు హఫ్నియం (TA4HFC5), ఇది అధిక ద్రవీభవన స్థానం కలిగి ఉంది. పెంటాకార్బైడ్ టెట్రాటనమ్ మరియు హాఫ్నియం యొక్క ద్రవీభవన స్థానం 4215 to కి చేరుకోవచ్చు, ఇది ప్రస్తుతం ఎత్తైన ద్రవీభవన బిందువుతో ప్రస్తుతం తెలిసిన పదార్థంగా మారుతుంది.

హఫ్నియం, కెమికల్ సింబల్ హెచ్‌ఎఫ్‌తో, పరివర్తన లోహ వర్గానికి చెందిన లోహ అంశం. దీని ఎలిమెంటల్ ప్రదర్శన వెండి బూడిద రంగు మరియు లోహ మెరుపును కలిగి ఉంటుంది. ఇది మోహ్స్ కాఠిన్యం 5.5, 2233 of యొక్క ద్రవీభవన స్థానం మరియు ప్లాస్టిక్. హఫ్నియం గాలిలో ఆక్సైడ్ పూతను ఏర్పరుస్తుంది మరియు దాని లక్షణాలు గది ఉష్ణోగ్రత వద్ద స్థిరంగా ఉంటాయి. పొడి హాఫ్నియం గాలిలో ఆకస్మికంగా మండించగలదు మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద ఆక్సిజన్ మరియు నత్రజనితో చర్య తీసుకుంటుంది. హాఫ్నియం నీటితో స్పందించదు, హైడ్రోక్లోరిక్ ఆమ్లం, సల్ఫ్యూరిక్ ఆమ్లం మరియు బలమైన ఆల్కలీన్ పరిష్కారాలు వంటి ఆమ్లాలను పలుచన చేస్తుంది. ఇది ఆక్వా రెజియా మరియు హైడ్రోఫ్లోరిక్ ఆమ్లం వంటి బలమైన ఆమ్లాలలో కరుగుతుంది మరియు అద్భుతమైన తుప్పు నిరోధకతను కలిగి ఉంటుంది.

మూలకంహఫ్నియం1923 లో కనుగొనబడింది. హఫ్నియం భూమి యొక్క క్రస్ట్‌లో తక్కువ కంటెంట్‌ను కలిగి ఉంది, ఇది 0.00045%మాత్రమే. ఇది సాధారణంగా లోహ జిర్కోనియంతో సంబంధం కలిగి ఉంటుంది మరియు ప్రత్యేక ఖనిజాలు లేవు. బెరిలియం జిర్కాన్, జిర్కాన్ మరియు ఇతర ఖనిజాలు వంటి చాలా జిర్కోనియం గనులలో హఫ్నియం చూడవచ్చు. మొదటి రెండు రకాల ఖనిజాలు హఫ్నియం యొక్క అధిక కంటెంట్‌ను కలిగి ఉంటాయి కాని తక్కువ నిల్వలు, మరియు జిర్కాన్ హాఫ్నియం యొక్క ప్రధాన మూలం. ప్రపంచ స్థాయిలో, హాఫ్నియం వనరుల మొత్తం నిల్వలు 1 మిలియన్ టన్నులకు పైగా ఉన్నాయి. పెద్ద నిల్వలు ఉన్న దేశాలలో ప్రధానంగా దక్షిణాఫ్రికా, ఆస్ట్రేలియా, యునైటెడ్ స్టేట్స్, బ్రెజిల్, ఇండియా మరియు ఇతర ప్రాంతాలు ఉన్నాయి. గ్వాంగ్జీ మరియు చైనాలోని ఇతర ప్రాంతాలలో కూడా హఫ్నియం గనులు పంపిణీ చేయబడతాయి.

1925 లో, స్వీడన్ మరియు నెదర్లాండ్స్‌కు చెందిన ఇద్దరు శాస్త్రవేత్తలు ఫ్లోరినేటెడ్ కాంప్లెక్స్ ఉప్పు పాక్షిక స్ఫటికీకరణ పద్ధతి మరియు మెటల్ సోడియం తగ్గింపు పద్ధతిని ఉపయోగించి హఫ్నియం మూలకాన్ని కనుగొన్నారు మరియు మెటల్ హాఫ్నియం తయారు చేశారు. హఫ్నియం రెండు క్రిస్టల్ నిర్మాణాలను కలిగి ఉంది మరియు 1300 ℃（ α- కంటే తక్కువ ఉష్ణోగ్రత వద్ద షట్కోణ దట్టమైన ప్యాకింగ్‌ను ప్రదర్శిస్తుంది- ఉష్ణోగ్రత 1300 above పైన ఉన్నప్పుడు, ఇది శరీర కేంద్రీకృత క్యూబిక్ ఆకారం （- సమీకరణంగా కనిపిస్తుంది). హఫ్నియంలో ఆరు స్థిరమైన ఐసోటోప్‌లు ఉన్నాయి, అవి హఫ్నియం 174, హఫ్నియం 176, హఫ్నియం 177, హఫ్నియం 178, హాఫ్నియం 179, మరియు హాఫ్నియం 180. ప్రపంచ స్థాయిలో, యునైటెడ్ స్టేట్స్ మరియు ఫ్రాన్స్ మెటల్ హఫ్నియం యొక్క ప్రధాన ఉత్పత్తిదారులు.

హాఫ్నియం యొక్క ప్రధాన సమ్మేళనాలు ఉన్నాయిహఫ్నియం డయాక్సిడ్ఇ (HFO2), హఫ్నియం టెట్రాక్లోరైడ్ (HFCL4), మరియు హఫ్నియం హైడ్రాక్సైడ్ (H4HFO4). హఫ్నియం డయాక్సైడ్ మరియు హఫ్నియం టెట్రాక్లోరైడ్లను లోహాన్ని ఉత్పత్తి చేయడానికి ఉపయోగించవచ్చుహఫ్నియం, హఫ్నియం డయాక్సైడ్హాఫ్నియం మిశ్రమాలను తయారు చేయడానికి కూడా ఉపయోగించవచ్చు మరియు వివిధ హాఫ్నియం సమ్మేళనాలను సిద్ధం చేయడానికి హాఫ్నియం హైడ్రాక్సైడ్‌ను ఉపయోగించవచ్చు. హఫ్నియం ఇతర లోహాలతో మిశ్రమాలను ఏర్పరుస్తుంది, వీటిలో ఎక్కువ ప్రతినిధి హఫ్నియం టాంటాలమ్ మిశ్రమం, పెంటాకార్బైడ్ టెట్రాటానమ్ మరియు హఫ్నియం (TA4HFC5), ఇది అధిక ద్రవీభవన స్థానం కలిగి ఉంటుంది. పెంటాకార్బైడ్ టెట్రాటనమ్ మరియు హాఫ్నియం యొక్క ద్రవీభవన స్థానం 4215 to కి చేరుకోవచ్చు, ఇది ప్రస్తుతం ఎత్తైన ద్రవీభవన బిందువుతో ప్రస్తుతం తెలిసిన పదార్థంగా మారుతుంది.

"2022-2026 డీప్ మార్కెట్ రీసెర్చ్ అండ్ ఇన్వెస్ట్‌మెంట్ స్ట్రాటజీ సూచనల నివేదిక ప్రకారం, జిన్సిజీ ఇండస్ట్రీ రీసెర్చ్ సెంటర్ విడుదల చేసిన మెటల్ హాఫ్నియం పరిశ్రమపై రిపోర్ట్", ప్రకాశించే దీపం తంతువులు, ఎక్స్-రే ట్యూబ్ కాథోడ్లు మరియు ప్రాసెసర్ గేట్ డైలెక్ట్రిక్స్ తయారీకి మెటల్ హాఫ్నియం ఉపయోగించవచ్చు; అధిక-వోల్టేజ్ డిశ్చార్జ్ ట్యూబ్ ఎలక్ట్రోడ్లను తయారు చేయడానికి హఫ్నియం టంగ్స్టన్ అల్లాయ్ మరియు హఫ్నియం మాలిబ్డినం అల్లాయ్లను ఉపయోగించవచ్చు, అయితే హఫ్నియం టాంటాలమ్ మిశ్రమం నిరోధక పదార్థాలు మరియు సాధన స్టీల్స్ తయారీకి ఉపయోగించవచ్చు; కార్బైడ్ కార్బైడ్ (HFC. అదనంగా, మెటల్ హాఫ్నియం పెద్ద న్యూట్రాన్ శోషణ క్రాస్-సెక్షన్‌ను కలిగి ఉంది మరియు అణు రియాక్టర్ల కోసం నియంత్రణ పదార్థం మరియు రక్షణ పరికరంగా కూడా ఉపయోగించవచ్చు.

జిన్సిజీకి చెందిన పరిశ్రమ విశ్లేషకులు ఆక్సీకరణ నిరోధకత, తుప్పు నిరోధకత, అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత మరియు ప్రాసెసింగ్ సౌలభ్యం కారణంగా, హఫ్నియం లోహాలు, మిశ్రమాలు, సమ్మేళనాలు మరియు ఇతర రంగాలలో విస్తృత శ్రేణి దిగువ అనువర్తనాలను కలిగి ఉంది, ఎలక్ట్రానిక్ పదార్థాలు, అధిక-క్షీరద నిరోధకత పదార్థాలు, కఠినమైన పదార్థాలు మరియు అట్రోమిక్ ఎనర్జీ. కొత్త పదార్థాలు, ఎలక్ట్రానిక్ సమాచారం మరియు ఏరోస్పేస్ వంటి పరిశ్రమల యొక్క వేగంగా అభివృద్ధి చెందడంతో, హాఫ్నియం యొక్క దరఖాస్తు క్షేత్రాలు నిరంతరం విస్తరిస్తున్నాయి మరియు కొత్త ఉత్పత్తులు నిరంతరం వెలువడుతున్నాయి. భవిష్యత్ అభివృద్ధి అవకాశాలు ఆశాజనకంగా ఉన్నాయి.