टेल्यूरियम डाइऑक्साइड क्या है और टेल्यूरियम डाइऑक्साइड का उपयोग क्या है?

टेल्यूरियम डाइऑक्साइड

टेल्यूरियम डाइऑक्साइड एक अकार्बनिक यौगिक, सफेद पाउडर है।मुख्य रूप से टेल्यूरियम डाइऑक्साइड सिंगल क्रिस्टल, इंफ्रारेड डिवाइस, एकॉस्टो-ऑप्टिक डिवाइस, इंफ्रारेड विंडो सामग्री, इलेक्ट्रॉनिक घटक सामग्री और संरक्षक तैयार करने के लिए उपयोग किया जाता है।पैकेजिंग को पॉलीथीन की बोतलों में पैक किया गया है।

आवेदन

 मुख्य रूप से एक ध्वनिरोधी विक्षेपण तत्व के रूप में उपयोग किया जाता है।

संरक्षण, टीकों में बैक्टीरिया की पहचान आदि के लिए उपयोग किया जाता है।

II-VI यौगिक अर्धचालक, थर्मल और विद्युत रूपांतरण घटक, प्रशीतन घटक, पीजोइलेक्ट्रिक क्रिस्टल और इन्फ्रारेड डिटेक्टरों की तैयारी।

एक संरक्षक के रूप में और जीवाणु टीकों में जीवाणु परीक्षण के लिए भी उपयोग किया जाता है।इसका उपयोग टेल्यूराइट्स तैयार करने के लिए टीकों में जीवाणु परीक्षण के लिए भी किया जाता है।उत्सर्जन स्पेक्ट्रम विश्लेषण.इलेक्ट्रॉनिक घटक सामग्री.परिरक्षक.

तैयारी

1. यह हवा में टेल्यूरियम के दहन या गर्म नाइट्रिक एसिड द्वारा ऑक्सीकरण से बनता है।

 Te+O2→TeO2； Te+4HNO3→TeO2+2H2O+4NO2

 2. टेल्यूरिक एसिड के थर्मल अपघटन द्वारा उत्पादित।

 3. तिरफा.

 4. टेल्यूरियम डाइऑक्साइड सिंगल क्रिस्टल की विकास तकनीक: एक प्रकार की टेल्यूरियम डाइऑक्साइड (TeO2) सिंगल क्रिस्टल ग्रोथ तकनीक जो क्रिस्टल ग्रोथ तकनीक से संबंधित है।इसकी विशेषता यह है कि क्रूसिबल वंश विधि विभिन्न स्पर्शरेखा दिशाओं और आकारों के साथ एकल क्रिस्टल विकसित कर सकती है।इस तकनीक का उपयोग करके, आयताकार, अण्डाकार, समचतुर्भुज, प्लेट-जैसे और बेलनाकार क्रिस्टल को [100] [001] [110] दिशा में और इनमें से किसी भी दिशा में उत्पन्न किया जा सकता है।विकसित क्रिस्टल (70-80) मिमी × (20-30) मिमी × 100 मिमी तक पहुंच सकते हैं। सामान्य खींचने की विधि की तुलना में, इस विधि में सरल उपकरण के फायदे हैं, खींचने की दिशा और काटने के आकार पर कोई प्रतिबंध नहीं, मूल रूप से कोई प्रदूषण नहीं, और तदनुसार क्रिस्टल उपयोग दर को 30-100% तक बढ़ा सकता है