Nuklear Grad Hafniumoxid

Kuerz Beschreiwung:

Produit Numm: Nuklear Grad Hafniumoxid
CAS: 12055-23-1
MF: HfO2
MW: 210,49
EINECS: 235-013-2

Produit Detailer

Produit Tags

Ausgesinn a Beschreiwung:
Hafniumoxidass d'Haaptoxide vum Hafnium, et ass de wäisse Gerochlosen a schmaachlosen Kristall an normalen Ëmstänn.

Numm: Hafniumdioxid	Chemesch Formel:HfO2
Molekulare Gewiicht: 210,6	Dicht: 9,68 g / cm3
Schmelzpunkt: 2850 ℃	Kachpunkt: 5400 ℃

Produit Eegeschafte:

Hafniumoxidass eng Aart vun net gëfteg a schmaachlos wäiss Feststoff, net am Waasser, Salzsäure an Salpetersäure opléisen, löslech a konzentréiert Schwefelsäure a Waasserstofffluoridsäure sinn; ；Refraktiounsindex（250nm）～2.15（500nm）～2， mat héije Schmelzpunkt, sou datt et eng breet Palette vun Ennbenotzen huet.

Applikatioun:

1) Matière première fir Zirkoniummetall a seng Verbindungen;

2) Zirkonium Zillen, Zirkoniumröhren, Krümelen, asw.

3) Thermesch Barrière Beschichtungen op Loftfaart an industriell Gasturbinen;

4) Zirconia kann och als Matrixentgasung Material fir poléieren Agenten, abrasive Partikel, piezoelektresch Keramik, Präzisioun Keramik, Keramik glazes, an héich-Temperatur Pigmenter benotzt ginn.Et ass och den Haaptgrond Matière première fir Röntgenfotografie, Liichtquelle Luuchten an Infrarout Spektrometer, a kënschtlech Bueraarbechten.

Qualitéitsnormen:

Enterprise Standard: Nuklear Grad Zirkonium chemesch Zesummesetzung Dësch Mass Fraktioun /%

Produit Grad			Éischt Schouljoer	Zweete Schouljoer	Drëtte Schouljoer	Note
Produit Zuel			SHXLHFO2-01	SHXLHFO2-02	SHXLHFO2-03
Chemesch Zesummesetzung (Massfraktioun) /%	Gëftstoffer	ZrO2	≥99	≥99	≥98
		Al	≤0,010	≤0,010	≤0,015
		B	≤0,00005	≤0,00005	≤0,0001
		Cd	≤0,00005	≤0,00005	≤0,0001
		Cr	≤0,003	≤0,003	≤0,005
		Cu	≤0,001	≤0,001	≤0,0015
		Fe	≤0,020	≤0,020	≤0,030
		Hf	Hf≤0,006	0,006–Hf–0,008	0.008–Hf–0.010
		Mg	≤0,005	≤0,005	≤0,010
		Mn	≤0,002	≤0,002	≤0,003
		Mo	≤0,002	≤0,002	≤0,003
		Ni	≤0,002	≤0,002	≤0,003
		Si	≤0,010	≤0,010	≤0,015
		Sn	≤0,002	≤0,002	≤0,005
		Ti	≤0,010	≤0,010	≤0,015
		V	≤0,002	≤0,002	≤0,003
		Igloss (950 ℃)	＜1.0	＜1.0	＜2.0
		Partikel	-200 Mesh≥98%, -200 Mesh ~+400 Mesh≥65%