લ Lan ન્થનમ હેક્સાબોરાઇડ લેબ 6 પાવડર

સંક્ષિપ્ત માહિતી:

લ Lan ન્થનમ હેક્સાબોરેટનીચા વેલેન્સ બોરોન અને દુર્લભ મેટલ એલિમેન્ટ લ ant ન્થનમથી બનેલું એક અકાર્બનિક નોન-મેટાલિક સંયોજન છે, જેમાં ખાસ સ્ફટિક રચના અને બોરાઇડ્સની મૂળભૂત લાક્ષણિકતાઓ છે. ભૌતિક ગુણધર્મોના પરિપ્રેક્ષ્યથી, લ nt ન્થનમ હેક્સાબોરેટ લેબ 6 ક્યુબિક ક્રિસ્ટલ સ્ટ્રક્ચરવાળા મેટલ રિફ્રેક્ટરી કમ્પાઉન્ડ સાથે સંબંધિત છે. તેમાં ઉચ્ચ કઠિનતા, ઉચ્ચ વાહકતા, ઉચ્ચ ગલનબિંદુ, થર્મલ વિસ્તરણનું ઓછું ગુણાંક અને સારી રાસાયણિક સ્થિરતા જેવા ઉત્તમ ગુણધર્મો છે. તે જ સમયે, લ nt ન્થનમ હેક્સાબોરેટ ઉચ્ચ તાપમાને ઉચ્ચ વર્તમાન ઘનતા અને નીચા બાષ્પીભવન દરને બહાર કા .ે છે, અને આયન બોમ્બમાળા, મજબૂત ઇલેક્ટ્રિક ક્ષેત્ર અને કિરણોત્સર્ગ સામે મજબૂત પ્રતિકાર છે. તેનો ઉપયોગ કેથોડ મટિરિયલ્સ, ઇલેક્ટ્રોન માઇક્રોસ્કોપી, ઇલેક્ટ્રોન બીમ વેલ્ડીંગ એપ્લિકેશન્સમાં કરવામાં આવે છે જેમાં ક્ષેત્રમાં ઉચ્ચ ઉત્સર્જન પ્રવાહોની જરૂર હોય છે, જેમ કે ડિસ્ચાર્જ ટ્યુબ.

 લ Lan ન્થનમ હેક્સાબોરેટસ્થિર રાસાયણિક ગુણધર્મો છે અને તે પાણી, ઓક્સિજન અથવા તો હાઇડ્રોક્લોરિક એસિડ સાથે પ્રતિક્રિયા આપતું નથી; ઓરડાના તાપમાને, તે ફક્ત નાઇટ્રિક એસિડ અને એક્વા રેજીયા સાથે પ્રતિક્રિયા આપે છે; Ox ક્સિડેશન ફક્ત 600-700 a એરોબિક વાતાવરણમાં થાય છે. વેક્યૂમ વાતાવરણમાં, લેબ 6 સામગ્રી અન્ય પદાર્થો અથવા વાયુઓ સાથે ઓછી ગલનબિંદુ પદાર્થો બનાવવા માટે પ્રતિક્રિયા આપવાની સંભાવના છે; Temperatures ંચા તાપમાને, રચાયેલા પદાર્થો સતત બાષ્પીભવન કરશે, જે લ nt ન્થનમ હેક્સાબેટ ક્રિસ્ટલની ઓછી એસ્કેપ વર્ક સપાટીને ઉત્સર્જનની સપાટી પર ખુલ્લી પાડશે, ત્યાં લ nt ન્થનમ હેક્સાબોરેટ ઉત્તમ વિરોધી ઝેરની ક્ષમતા આપે છે.

તેલ Lan ન્થનમ હેક્સાબોરેટકેથોડમાં temperatures ંચા તાપમાને ઓછા બાષ્પીભવન દર અને લાંબી સેવા જીવન છે. જ્યારે temperature ંચા તાપમાને ગરમ કરવામાં આવે છે, ત્યારે સપાટી મેટલ લ nt ન્થનમ અણુ બાષ્પીભવનના નુકસાનને કારણે ખાલી જગ્યાઓ ઉત્પન્ન કરે છે, જ્યારે આંતરિક મેટલ લ nt ન્થનમ અણુઓ પણ ખાલી જગ્યાઓને પૂરક બનાવવા માટે ફેલાય છે, બોરોન ફ્રેમવર્ક સ્ટ્રક્ચરને યથાવત રાખીને. આ મિલકત લેબ 6 કેથોડના બાષ્પીભવનની ખોટને ઘટાડે છે અને તે જ સમયે સક્રિય કેથોડ સપાટી જાળવે છે. સમાન ઉત્સર્જન વર્તમાન ઘનતા પર, temperatures ંચા તાપમાને લેબ 6 કેથોડ સામગ્રીનો બાષ્પીભવન દર સામાન્ય કેથોડ સામગ્રી કરતા ઓછો હોય છે, અને કેથોડ્સના સર્વિસ લાઇફને વિસ્તૃત કરવા માટે નીચા બાષ્પીભવન દર એ એક મહત્વપૂર્ણ પરિબળ છે.

અરજી:

1. લ nt ન્થનમ હેક્સાબોરેટ લેબ 6 કેથોડ મટિરિયલ

ઉચ્ચ તાપમાનમાં ઉચ્ચ ઉત્સર્જન વર્તમાન ઘનતા અને નીચા બાષ્પીભવન દરલેબ 6 લેન્થનમ હેક્સાબોરેટતેને શ્રેષ્ઠ પ્રદર્શન સાથે કેથોડ સામગ્રી બનાવો, ધીમે ધીમે industrial દ્યોગિક કાર્યક્રમોમાં કેટલાક ટંગસ્ટન કેથોડ્સને બદલીને. હાલમાં, લેન્થનમ હેક્સાબોરેટ સાથે લેબ 6 કેથોડ મટિરિયલ્સના મુખ્ય એપ્લિકેશન ક્ષેત્રો નીચે મુજબ છે:

1.1 નવા ટેકનોલોજી ઉદ્યોગો જેમ કે માઇક્રોવેવ વેક્યુમ ઇલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણો અને લશ્કરી અને અવકાશ તકનીકી ક્ષેત્રોમાં આયન થ્રસ્ટર્સ, સિવિલ અને લશ્કરી ઉદ્યોગો દ્વારા જરૂરી ઉચ્ચ વ્યાખ્યા અને ઉચ્ચ વર્તમાન એમિસીવિટી, અને ઇલેક્ટ્રોન બીમ લેસરો સાથે ડિસ્પ્લે અને ઇમેજિંગ ડિવાઇસીસ. આ ઉચ્ચ તકનીકી ઉદ્યોગોમાં, નીચા તાપમાન, ઉચ્ચ એકરૂપતા એમિસીવિટી, ઉચ્ચ વર્તમાન ઉત્સર્જનની ઘનતા અને લાંબી આયુષ્યવાળી કેથોડ સામગ્રીની માંગ હંમેશાં ખૂબ ચુસ્ત રહી છે.

૧.૨ ઇલેક્ટ્રોન બીમ વેલ્ડીંગ ઉદ્યોગ, અર્થતંત્રના વિકાસ સાથે, ઇલેક્ટ્રોન બીમ વેલ્ડીંગ મશીનો, ઇલેક્ટ્રોન બીમ ગલન અને કેથોડ્સ સાથેના ઉપકરણોને કાપવા જરૂરી છે જે ઉચ્ચ વર્તમાન ઘનતા અને ઓછા એસ્કેપ વર્કની આવશ્યકતાઓને પૂર્ણ કરી શકે છે. જો કે, પરંપરાગત ઉપકરણો મુખ્યત્વે ટંગસ્ટન કેથોડ્સ (ઉચ્ચ એસ્કેપ વર્ક અને નીચા વર્તમાન ઉત્સર્જન ઘનતા સાથે) નો ઉપયોગ કરે છે જે એપ્લિકેશન આવશ્યકતાઓને પૂર્ણ કરી શકતા નથી. તેથી, લેબ 6 કેથોડ્સે ટંગસ્ટન કેથોડ્સને તેમના શ્રેષ્ઠ પ્રદર્શનથી બદલ્યા છે અને ઇલેક્ટ્રોન બીમ વેલ્ડીંગ ઉદ્યોગમાં તેનો વ્યાપકપણે ઉપયોગ કરવામાં આવ્યો છે.

1.3 માં ઉચ્ચ તકનીકી પરીક્ષણ સાધન ઉદ્યોગ,લેબ 6ઇલેક્ટ્રોનિક સાધનોમાં ટંગસ્ટન કેથોડ જેવી પરંપરાગત હોટ કેથોડ સામગ્રીને બદલવા માટે કેથોડ તેની ઉચ્ચ તેજ, ​​લાંબી આયુષ્ય અને અન્ય લાક્ષણિકતાઓનો ઉપયોગ કરે છે જેમ કે ઇલેક્ટ્રોન માઇક્રોસ્કોપ્સ, ger ગર સ્પેક્ટ્રોમીટર્સ અને ઇલેક્ટ્રોન પ્રોબ્સ.

1.4 માં પ્રવેગક ઉદ્યોગ, પરંપરાગત ટંગસ્ટન અને ટેન્ટાલમની તુલનામાં આયન બોમ્બમાળા સામે લેબ 6 ની વધુ સ્થિરતા છે. પરિણામે,લેબ 6સિંક્રોટ્રોન અને સાયક્લોટ્રોન એક્સિલરેટર જેવા વિવિધ બંધારણોવાળા એક્સિલરેટરમાં કેથોડ્સનો વ્યાપકપણે ઉપયોગ થાય છે.

1.5લેબ 61.5 ડિસ્ચાર્જ ટ્યુબ ઉદ્યોગમાં કેથોડ ગેસ ડિસ્ચાર્જ ટ્યુબ, લેસર ટ્યુબ અને મેગ્નેટ્રોન પ્રકાર એમ્પ્લીફાયર્સમાં લાગુ કરી શકાય છે.

2. આધુનિક તકનીકીમાં ઇલેક્ટ્રોનિક ઘટક તરીકે લેબ 6, નાગરિક અને સંરક્ષણ ઉદ્યોગોમાં વ્યાપકપણે ઉપયોગમાં લેવાય છે:

2.1 ઇલેક્ટ્રોન ઉત્સર્જન કેથોડ. ઓછા ઇલેક્ટ્રોન એસ્કેપ કામને લીધે, મધ્યમ તાપમાને સૌથી વધુ ઉત્સર્જન વર્તમાનવાળી કેથોડ સામગ્રી મેળવી શકાય છે, ખાસ કરીને ઉચ્ચ-ગુણવત્તાવાળા સિંગલ ક્રિસ્ટલ્સ, જે ઉચ્ચ-પાવર ઇલેક્ટ્રોન ઉત્સર્જન કેથોડ્સ માટે આદર્શ સામગ્રી છે.

2.2 ઉચ્ચ તેજસ્વી બિંદુ પ્રકાશ સ્રોત. ઇલેક્ટ્રોન માઇક્રોસ્કોપ્સ, જેમ કે opt પ્ટિકલ ફિલ્ટર્સ, સોફ્ટ એક્સ-રે ડિફરક્શન મોનોક્રોમેટર્સ અને અન્ય ઇલેક્ટ્રોન બીમ લાઇટ સ્રોતો તૈયાર કરવા માટે ઉપયોગમાં લેવાતા મુખ્ય ઘટકો.

2.3 ઉચ્ચ સ્થિરતા અને ઉચ્ચ જીવનકાળ સિસ્ટમ ઘટકો. તેનું ઉત્તમ વ્યાપક પ્રદર્શન વિવિધ ઇલેક્ટ્રોન બીમ સિસ્ટમોમાં તેની એપ્લિકેશનને સક્ષમ કરે છે, જેમ કે ઇલેક્ટ્રોન બીમ કોતરણી, ઇલેક્ટ્રોન બીમ હીટ સ્રોત, ઇલેક્ટ્રોન બીમ વેલ્ડીંગ બંદૂકો અને પ્રવેગક, એન્જિનિયરિંગ ક્ષેત્રોમાં ઉચ્ચ પ્રદર્શન ઘટકોના ઉત્પાદન માટે.

સ્પષ્ટીકરણ:

પ્રમાણપત્ર

 આપણે શું પ્રદાન કરી શકીએ?