ਤੱਤ 72: ਹੈਫਨੀਅਮ

ਹੈਫਨੀਅਮ, ਧਾਤ Hf, ਪਰਮਾਣੂ ਨੰਬਰ 72, ਪਰਮਾਣੂ ਭਾਰ 178.49, ਇੱਕ ਚਮਕਦਾਰ ਸਿਲਵਰ ਸਲੇਟੀ ਪਰਿਵਰਤਨ ਧਾਤ ਹੈ।

ਹੈਫਨਿਅਮ ਦੇ ਛੇ ਕੁਦਰਤੀ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸਥਿਰ ਆਈਸੋਟੋਪ ਹਨ: ਹੈਫਨੀਅਮ 174, 176, 177, 178, 179, ਅਤੇ 180। ਹੈਫਨੀਅਮ ਪਤਲੇ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਲੋਰਿਕ ਐਸਿਡ, ਪਤਲੇ ਸਲਫਿਊਰਿਕ ਐਸਿਡ, ਅਤੇ ਮਜ਼ਬੂਤ ​​ਅਲਕਲੀਨ ਘੋਲ ਨਾਲ ਪ੍ਰਤੀਕਿਰਿਆ ਨਹੀਂ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਪਰ ਇਹ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਲੋਰਿਕ ਐਸਿਡ ਅਤੇ ਐਕਵਾਫਲੂਓਰ ਵਿੱਚ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲ ਹੈ।ਤੱਤ ਦਾ ਨਾਮ ਕੋਪੇਨਹੇਗਨ ਸਿਟੀ ਦੇ ਲਾਤੀਨੀ ਨਾਮ ਤੋਂ ਆਇਆ ਹੈ।

1925 ਵਿੱਚ, ਸਵੀਡਿਸ਼ ਰਸਾਇਣ ਵਿਗਿਆਨੀ ਹਰਵੇ ਅਤੇ ਡੱਚ ਭੌਤਿਕ ਵਿਗਿਆਨੀ ਕੋਸਟਰ ਨੇ ਫਲੋਰੀਨੇਟਿਡ ਗੁੰਝਲਦਾਰ ਲੂਣਾਂ ਦੇ ਫਰੈਕਸ਼ਨਲ ਕ੍ਰਿਸਟਾਲਾਈਜ਼ੇਸ਼ਨ ਦੁਆਰਾ ਸ਼ੁੱਧ ਹੈਫਨੀਅਮ ਲੂਣ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ, ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧ ਧਾਤੂ ਹੈਫਨੀਅਮ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਇਸਨੂੰ ਧਾਤੂ ਸੋਡੀਅਮ ਨਾਲ ਘਟਾ ਦਿੱਤਾ।ਹੈਫਨੀਅਮ ਵਿੱਚ ਧਰਤੀ ਦੀ ਛਾਲੇ ਦਾ 0.00045% ਹੁੰਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਅਕਸਰ ਕੁਦਰਤ ਵਿੱਚ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਨਾਲ ਜੁੜਿਆ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।

ਉਤਪਾਦ ਦਾ ਨਾਮ: ਹੈਫਨੀਅਮ

ਤੱਤ ਚਿੰਨ੍ਹ: Hf

ਪਰਮਾਣੂ ਭਾਰ: 178.49

ਤੱਤ ਦੀ ਕਿਸਮ: ਧਾਤੂ ਤੱਤ

ਭੌਤਿਕ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ:

ਹੈਫਨੀਅਮਇੱਕ ਧਾਤੂ ਚਮਕ ਦੇ ਨਾਲ ਇੱਕ ਚਾਂਦੀ ਦੀ ਸਲੇਟੀ ਧਾਤ ਹੈ;ਧਾਤੂ ਹੈਫ਼ਨੀਅਮ ਦੇ ਦੋ ਰੂਪ ਹਨ: α ਹੈਫ਼ਨੀਅਮ ਇੱਕ ਹੈਕਸਾਗੋਨਲ ਨੇੜਿਓਂ ਪੈਕ ਕੀਤਾ ਰੂਪ (1750 ℃) ਹੈ ਜਿਸਦਾ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਨਾਲੋਂ ਉੱਚ ਪਰਿਵਰਤਨ ਤਾਪਮਾਨ ਹੈ।ਧਾਤੂ ਹੈਫਨੀਅਮ ਦੇ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨਾਂ 'ਤੇ ਅਲੋਟ੍ਰੋਪ ਰੂਪ ਹੁੰਦੇ ਹਨ।ਧਾਤੂ ਹੈਫਨੀਅਮ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਉੱਚ ਨਿਊਟ੍ਰੋਨ ਸਮਾਈ ਕਰਾਸ-ਸੈਕਸ਼ਨ ਹੁੰਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਰਿਐਕਟਰਾਂ ਲਈ ਇੱਕ ਨਿਯੰਤਰਣ ਸਮੱਗਰੀ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।

ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਬਣਤਰਾਂ ਦੀਆਂ ਦੋ ਕਿਸਮਾਂ ਹਨ: 1300 ℃ (α- ਸਮੀਕਰਨ) ਤੋਂ ਘੱਟ ਤਾਪਮਾਨ 'ਤੇ ਹੈਕਸਾਗੋਨਲ ਸੰਘਣੀ ਪੈਕਿੰਗ;1300 ℃ ਤੋਂ ਉੱਪਰ ਦੇ ਤਾਪਮਾਨ 'ਤੇ, ਇਹ ਸਰੀਰ ਕੇਂਦਰਿਤ ਘਣ ਹੈ（β- ਸਮੀਕਰਨ)।ਪਲਾਸਟਿਕਤਾ ਵਾਲੀ ਇੱਕ ਧਾਤ ਜੋ ਅਸ਼ੁੱਧੀਆਂ ਦੀ ਮੌਜੂਦਗੀ ਵਿੱਚ ਸਖ਼ਤ ਅਤੇ ਭੁਰਭੁਰਾ ਹੋ ਜਾਂਦੀ ਹੈ।ਹਵਾ ਵਿੱਚ ਸਥਿਰ, ਸੜਨ 'ਤੇ ਹੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਹਨੇਰਾ ਹੋ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਫਿਲਾਮੈਂਟਸ ਨੂੰ ਮੈਚ ਦੀ ਲਾਟ ਦੁਆਰਾ ਜਗਾਇਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਵਰਗੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ.ਇਹ ਪਾਣੀ, ਪਤਲੇ ਐਸਿਡ ਜਾਂ ਮਜ਼ਬੂਤ ​​ਅਧਾਰਾਂ ਨਾਲ ਪ੍ਰਤੀਕਿਰਿਆ ਨਹੀਂ ਕਰਦਾ, ਪਰ ਐਕਵਾ ਰੇਜੀਆ ਅਤੇ ਹਾਈਡ੍ਰੋਫਲੋਰਿਕ ਐਸਿਡ ਵਿੱਚ ਆਸਾਨੀ ਨਾਲ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ a+4 valence ਵਾਲੇ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਵਿੱਚ।ਹੈਫਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ (Ta4HfC5) ਸਭ ਤੋਂ ਉੱਚੇ ਪਿਘਲਣ ਵਾਲੇ ਬਿੰਦੂ (ਲਗਭਗ 4215 ℃) ਲਈ ਜਾਣਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।

ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਬਣਤਰ: ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਸੈੱਲ ਹੈਕਸਾਗੋਨਲ ਹੁੰਦਾ ਹੈ

CAS ਨੰਬਰ: 7440-58-6

ਪਿਘਲਣ ਦਾ ਬਿੰਦੂ: 2227 ℃

ਉਬਾਲਣ ਬਿੰਦੂ: 4602 ℃

ਰਸਾਇਣਕ ਗੁਣ:

ਹੈਫਨਿਅਮ ਦੀਆਂ ਰਸਾਇਣਕ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਦੇ ਸਮਾਨ ਹਨ, ਅਤੇ ਇਸਦਾ ਵਧੀਆ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਹੈ ਅਤੇ ਆਮ ਐਸਿਡ ਅਲਕਲੀ ਜਲਮਈ ਘੋਲ ਦੁਆਰਾ ਆਸਾਨੀ ਨਾਲ ਖਰਾਬ ਨਹੀਂ ਹੁੰਦਾ ਹੈ;ਫਲੋਰੀਨੇਟਿਡ ਕੰਪਲੈਕਸ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਹਾਈਡ੍ਰੋਫਲੋਰਿਕ ਐਸਿਡ ਵਿੱਚ ਆਸਾਨੀ ਨਾਲ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲ।ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ 'ਤੇ, ਹੈਫਨੀਅਮ ਆਕਸੀਜਨ ਅਤੇ ਨਾਈਟ੍ਰੋਜਨ ਵਰਗੀਆਂ ਗੈਸਾਂ ਨਾਲ ਸਿੱਧੇ ਤੌਰ 'ਤੇ ਮਿਲ ਕੇ ਆਕਸਾਈਡ ਅਤੇ ਨਾਈਟਰਾਈਡ ਬਣਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।

ਹੈਫਨਿਅਮ ਵਿੱਚ ਅਕਸਰ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਇੱਕ + 4 ਵੈਲੈਂਸ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।ਮੁੱਖ ਮਿਸ਼ਰਣ ਹੈਹੈਫਨੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡHfO2.ਹੈਫਨੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਦੇ ਤਿੰਨ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਰੂਪ ਹਨ:ਹੈਫਨੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡਹੈਫਨੀਅਮ ਸਲਫੇਟ ਅਤੇ ਕਲੋਰਾਈਡ ਆਕਸਾਈਡ ਦੇ ਲਗਾਤਾਰ ਕੈਲਸੀਨੇਸ਼ਨ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਇੱਕ ਮੋਨੋਕਲੀਨਿਕ ਰੂਪ ਹੈ;ਹੈਫਨੀਅਮ ਦੇ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਾਈਡ ਨੂੰ ਲਗਭਗ 400 ℃ 'ਤੇ ਗਰਮ ਕਰਨ ਨਾਲ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈਫਨੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਇੱਕ ਟੈਟਰਾਗੋਨਲ ਰੂਪ ਹੈ;ਜੇਕਰ 1000 ℃ ਤੋਂ ਉੱਪਰ ਕੈਲਸੀਨ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ ਇੱਕ ਘਣ ਰੂਪ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਇਕ ਹੋਰ ਮਿਸ਼ਰਣ ਹੈਹੈਫਨੀਅਮ ਟੈਟਰਾਕਲੋਰਾਈਡ, ਜੋ ਕਿ ਧਾਤੂ ਹੈਫਨੀਅਮ ਤਿਆਰ ਕਰਨ ਲਈ ਕੱਚਾ ਮਾਲ ਹੈ ਅਤੇ ਹੈਫਨੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਅਤੇ ਕਾਰਬਨ ਦੇ ਮਿਸ਼ਰਣ 'ਤੇ ਕਲੋਰੀਨ ਗੈਸ ਦੀ ਪ੍ਰਤੀਕਿਰਿਆ ਕਰਕੇ ਤਿਆਰ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਹੈਫਨਿਅਮ ਟੈਟਰਾਕਲੋਰਾਈਡ ਪਾਣੀ ਦੇ ਸੰਪਰਕ ਵਿੱਚ ਆਉਂਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਤੁਰੰਤ ਉੱਚ ਸਥਿਰ HfO (4H2O) 2+ ਆਇਨਾਂ ਵਿੱਚ ਹਾਈਡੋਲਾਈਜ਼ ਹੋ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।HfO2 + ਆਇਨ ਹੈਫਨੀਅਮ ਦੇ ਬਹੁਤ ਸਾਰੇ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਮੌਜੂਦ ਹਨ, ਅਤੇ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਲੋਰਿਕ ਐਸਿਡ ਐਸਿਡਿਡ ਹੈਫਨੀਅਮ ਟੈਟਰਾਕਲੋਰਾਈਡ ਘੋਲ ਵਿੱਚ ਸੂਈ ਦੇ ਆਕਾਰ ਦੇ ਹਾਈਡਰੇਟਿਡ ਹੈਫਨੀਅਮ ਆਕਸੀਕਲੋਰਾਈਡ HfOCl2 · 8H2O ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਨੂੰ ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ।

4-ਵੈਲੇਂਟ ਹੈਫਨੀਅਮ ਫਲੋਰਾਈਡ ਦੇ ਨਾਲ ਕੰਪਲੈਕਸ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਵੀ ਸੰਭਾਵਿਤ ਹੈ, ਜਿਸ ਵਿੱਚ K2HfF6, K3HfF7, (NH4) 2HfF6, ਅਤੇ (NH4) 3HfF7 ਸ਼ਾਮਲ ਹਨ।ਇਹ ਕੰਪਲੈਕਸ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਅਤੇ ਹੈਫਨੀਅਮ ਨੂੰ ਵੱਖ ਕਰਨ ਲਈ ਵਰਤੇ ਗਏ ਹਨ।

ਆਮ ਮਿਸ਼ਰਣ:

ਹੈਫਨੀਅਮ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ: ਨਾਮ ਹੈਫਨੀਅਮ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ;ਹੈਫਨੀਅਮ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ;ਅਣੂ ਫਾਰਮੂਲਾ: HfO2 [4];ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾ: ਤਿੰਨ ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਬਣਤਰਾਂ ਵਾਲਾ ਚਿੱਟਾ ਪਾਊਡਰ: ਮੋਨੋਕਲੀਨਿਕ, ਟੈਟਰਾਗੋਨਲ ਅਤੇ ਕਿਊਬਿਕ।ਘਣਤਾ ਕ੍ਰਮਵਾਰ 10.3, 10.1, ਅਤੇ 10.43g/cm3 ਹਨ।ਪਿਘਲਣ ਦਾ ਬਿੰਦੂ 2780-2920K।ਉਬਾਲ ਬਿੰਦੂ 5400K.ਥਰਮਲ ਵਿਸਤਾਰ ਗੁਣਾਂਕ 5.8 × 10-6/℃।ਪਾਣੀ, ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਲੋਰਿਕ ਐਸਿਡ ਅਤੇ ਨਾਈਟ੍ਰਿਕ ਐਸਿਡ ਵਿੱਚ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲ, ਪਰ ਕੇਂਦਰਿਤ ਸਲਫਿਊਰਿਕ ਐਸਿਡ ਅਤੇ ਹਾਈਡ੍ਰੋਫਲੋਰਿਕ ਐਸਿਡ ਵਿੱਚ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲ।ਹੈਫਨੀਅਮ ਸਲਫੇਟ ਅਤੇ ਹੈਫਨੀਅਮ ਆਕਸੀਕਲੋਰਾਈਡ ਵਰਗੇ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਦੇ ਥਰਮਲ ਸੜਨ ਜਾਂ ਹਾਈਡੋਲਿਸਿਸ ਦੁਆਰਾ ਪੈਦਾ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।ਧਾਤ ਹੈਫਨੀਅਮ ਅਤੇ ਹੈਫਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੇ ਉਤਪਾਦਨ ਲਈ ਕੱਚਾ ਮਾਲ.ਰਿਫ੍ਰੈਕਟਰੀ ਸਮੱਗਰੀ, ਐਂਟੀ ਰੇਡੀਓਐਕਟਿਵ ਕੋਟਿੰਗਜ਼, ਅਤੇ ਉਤਪ੍ਰੇਰਕ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।[5] ਪਰਮਾਣੂ ਊਰਜਾ ਪੱਧਰ HfO ਇੱਕ ਉਤਪਾਦ ਹੈ ਜੋ ਪ੍ਰਮਾਣੂ ਊਰਜਾ ਪੱਧਰ ZrO ਦਾ ਨਿਰਮਾਣ ਕਰਦੇ ਸਮੇਂ ਇੱਕੋ ਸਮੇਂ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਸੈਕੰਡਰੀ ਕਲੋਰੀਨੇਸ਼ਨ ਤੋਂ ਸ਼ੁਰੂ ਹੋ ਕੇ, ਸ਼ੁੱਧੀਕਰਨ, ਕਮੀ ਅਤੇ ਵੈਕਿਊਮ ਡਿਸਟਿਲੇਸ਼ਨ ਦੀਆਂ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਲਗਭਗ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਦੇ ਸਮਾਨ ਹਨ।

ਹੈਫਨੀਅਮ ਟੈਟਰਾਕਲੋਰਾਈਡ: Hafnium (IV) ਕਲੋਰਾਈਡ, Hafnium tetrachloride ਅਣੂ ਫਾਰਮੂਲਾ HfCl4 ਅਣੂ ਭਾਰ 320.30 ਅੱਖਰ: ਚਿੱਟਾ ਕ੍ਰਿਸਟਲਿਨ ਬਲਾਕ.ਨਮੀ ਪ੍ਰਤੀ ਸੰਵੇਦਨਸ਼ੀਲ.ਐਸੀਟੋਨ ਅਤੇ ਮੀਥੇਨੌਲ ਵਿੱਚ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲ.ਹੈਫਨੀਅਮ ਆਕਸੀਕਲੋਰਾਈਡ (HfOCl2) ਪੈਦਾ ਕਰਨ ਲਈ ਪਾਣੀ ਵਿੱਚ ਹਾਈਡਰੋਲਾਈਜ਼ ਕਰੋ।250 ℃ ਤੱਕ ਗਰਮ ਕਰੋ ਅਤੇ ਭਾਫ਼ ਬਣ ਜਾਓ।ਅੱਖਾਂ, ਸਾਹ ਪ੍ਰਣਾਲੀ ਅਤੇ ਚਮੜੀ ਨੂੰ ਪਰੇਸ਼ਾਨ ਕਰਨਾ।

ਹੈਫਨੀਅਮ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਾਈਡ: ਹੈਫਨੀਅਮ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਾਈਡ (H4HfO4), ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਹਾਈਡਰੇਟਿਡ ਆਕਸਾਈਡ HfO2 · nH2O ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਮੌਜੂਦ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਪਾਣੀ ਵਿੱਚ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲ, ਅਕਾਰਬਨਿਕ ਐਸਿਡਾਂ ਵਿੱਚ ਆਸਾਨੀ ਨਾਲ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲ, ਅਮੋਨੀਆ ਵਿੱਚ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲ, ਅਤੇ ਸੋਡੀਅਮ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਾਈਡ ਵਿੱਚ ਘੱਟ ਹੀ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।ਹੈਫਨਿਅਮ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਾਈਡ HfO (OH) 2 ਪੈਦਾ ਕਰਨ ਲਈ 100 ℃ ਤੱਕ ਗਰਮ ਕਰੋ 2. ਸਫੈਦ ਹੈਫਨੀਅਮ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਾਈਡ ਪ੍ਰੀਪੀਟੇਟ ਨੂੰ ਹੈਫਨੀਅਮ (IV) ਲੂਣ ਨੂੰ ਅਮੋਨੀਆ ਵਾਲੇ ਪਾਣੀ ਨਾਲ ਪ੍ਰਤੀਕਿਰਿਆ ਕਰਕੇ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਇਹ ਹੋਰ ਹੈਫਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਣ ਪੈਦਾ ਕਰਨ ਲਈ ਵਰਤਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ.

ਖੋਜ ਇਤਿਹਾਸ

ਖੋਜ ਇਤਿਹਾਸ:

1923 ਵਿੱਚ, ਸਵੀਡਿਸ਼ ਰਸਾਇਣ ਵਿਗਿਆਨੀ ਹਰਵੇ ਅਤੇ ਡੱਚ ਭੌਤਿਕ ਵਿਗਿਆਨੀ ਡੀ. ਕੋਸਟਰ ਨੇ ਨਾਰਵੇ ਅਤੇ ਗ੍ਰੀਨਲੈਂਡ ਵਿੱਚ ਪੈਦਾ ਹੋਣ ਵਾਲੇ ਜ਼ੀਰਕੋਨ ਵਿੱਚ ਹੈਫਨਿਅਮ ਦੀ ਖੋਜ ਕੀਤੀ ਅਤੇ ਇਸਦਾ ਨਾਮ ਹੈਫਨੀਅਮ ਰੱਖਿਆ, ਜੋ ਕਿ ਕੋਪਨਹੇਗਨ ਦੇ ਲਾਤੀਨੀ ਨਾਮ ਹਾਫਨੀਆ ਤੋਂ ਉਤਪੰਨ ਹੋਇਆ।1925 ਵਿੱਚ, ਹਰਵੇ ਅਤੇ ਕੋਸਟਰ ਨੇ ਸ਼ੁੱਧ ਹੈਫਨੀਅਮ ਲੂਣ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਫਲੋਰੀਨੇਟਿਡ ਗੁੰਝਲਦਾਰ ਲੂਣਾਂ ਦੇ ਫਰੈਕਸ਼ਨਲ ਕ੍ਰਿਸਟਾਲਾਈਜ਼ੇਸ਼ਨ ਦੀ ਵਿਧੀ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹੋਏ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਅਤੇ ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਨੂੰ ਵੱਖ ਕੀਤਾ;ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧ ਧਾਤੂ ਹੈਫਨੀਅਮ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਧਾਤੂ ਸੋਡੀਅਮ ਨਾਲ ਹੈਫਨੀਅਮ ਲੂਣ ਨੂੰ ਘਟਾਓ।ਹਰਵੇ ਨੇ ਕਈ ਮਿਲੀਗ੍ਰਾਮ ਸ਼ੁੱਧ ਹੈਫਨੀਅਮ ਦਾ ਨਮੂਨਾ ਤਿਆਰ ਕੀਤਾ।

ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਅਤੇ ਹੈਫਨੀਅਮ 'ਤੇ ਰਸਾਇਣਕ ਪ੍ਰਯੋਗ:

1998 ਵਿੱਚ ਟੈਕਸਾਸ ਯੂਨੀਵਰਸਿਟੀ ਵਿੱਚ ਪ੍ਰੋਫ਼ੈਸਰ ਕਾਰਲ ਕੋਲਿਨਜ਼ ਦੁਆਰਾ ਕਰਵਾਏ ਗਏ ਇੱਕ ਪ੍ਰਯੋਗ ਵਿੱਚ, ਇਹ ਦਾਅਵਾ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ ਕਿ ਗਾਮਾ ਇਰੇਡੀਏਟਿਡ ਹੈਫ਼ਨੀਅਮ 178m2 (ਆਈਸੋਮਰ ਹੈਫ਼ਨੀਅਮ-178m2 [7]) ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਊਰਜਾ ਛੱਡ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਰਸਾਇਣਕ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆਵਾਂ ਨਾਲੋਂ ਪੰਜ ਆਰਡਰ ਦੀ ਤੀਬਰਤਾ ਵੱਧ ਹੈ, ਪਰ ਪ੍ਰਮਾਣੂ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆਵਾਂ ਨਾਲੋਂ ਘੱਟ ਤੀਬਰਤਾ ਦੇ ਤਿੰਨ ਆਦੇਸ਼।[8] Hf178m2 (ਹੈਫਨੀਅਮ 178m2) ਦਾ ਸਮਾਨ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਤੱਕ ਰਹਿਣ ਵਾਲੇ ਆਈਸੋਟੋਪਾਂ ਵਿੱਚੋਂ ਸਭ ਤੋਂ ਲੰਬਾ ਜੀਵਨ ਕਾਲ ਹੈ: Hf178m2 (ਹੈਫਨੀਅਮ 178m2) ਦੀ ਅੱਧੀ-ਜੀਵਨ 31 ਸਾਲ ਹੈ, ਜਿਸਦੇ ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਲਗਭਗ 1.6 ਟ੍ਰਿਲੀਅਨ ਬੇਕਾਰੇਲਸ ਦੀ ਕੁਦਰਤੀ ਰੇਡੀਓਐਕਟੀਵਿਟੀ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।ਕੋਲਿਨਜ਼ ਦੀ ਰਿਪੋਰਟ ਵਿੱਚ ਕਿਹਾ ਗਿਆ ਹੈ ਕਿ ਇੱਕ ਗ੍ਰਾਮ ਸ਼ੁੱਧ Hf178m2 (ਹੈਫਨੀਅਮ 178m2) ਵਿੱਚ ਲਗਭਗ 1330 ਮੈਗਾਜੂਲ ਹੁੰਦੇ ਹਨ, ਜੋ ਕਿ 300 ਕਿਲੋਗ੍ਰਾਮ ਟੀਐਨਟੀ ਵਿਸਫੋਟਕਾਂ ਦੇ ਵਿਸਫੋਟ ਦੁਆਰਾ ਜਾਰੀ ਊਰਜਾ ਦੇ ਬਰਾਬਰ ਹੈ।ਕੋਲਿਨਜ਼ ਦੀ ਰਿਪੋਰਟ ਦਰਸਾਉਂਦੀ ਹੈ ਕਿ ਇਸ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਵਿੱਚ ਸਾਰੀ ਊਰਜਾ ਐਕਸ-ਰੇ ਜਾਂ ਗਾਮਾ ਕਿਰਨਾਂ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਜਾਰੀ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਜੋ ਬਹੁਤ ਤੇਜ਼ ਰਫ਼ਤਾਰ ਨਾਲ ਊਰਜਾ ਛੱਡਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ Hf178m2 (ਹੈਫ਼ਨੀਅਮ 178m2) ਅਜੇ ਵੀ ਬਹੁਤ ਘੱਟ ਗਾੜ੍ਹਾਪਣ 'ਤੇ ਪ੍ਰਤੀਕਿਰਿਆ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ।[9] ਪੈਂਟਾਗਨ ਨੇ ਖੋਜ ਲਈ ਫੰਡ ਅਲਾਟ ਕੀਤੇ ਹਨ।ਪ੍ਰਯੋਗ ਵਿੱਚ, ਸਿਗਨਲ-ਟੂ-ਆਵਾਜ਼ ਅਨੁਪਾਤ ਬਹੁਤ ਘੱਟ ਸੀ (ਮਹੱਤਵਪੂਰਣ ਗਲਤੀਆਂ ਦੇ ਨਾਲ), ਅਤੇ ਉਦੋਂ ਤੋਂ, ਸੰਯੁਕਤ ਰਾਜ ਡਿਫੈਂਸ ਐਡਵਾਂਸਡ ਪ੍ਰੋਜੈਕਟਸ ਰਿਸਰਚ ਏਜੰਸੀ (DARPA) ਅਤੇ JASON ਰੱਖਿਆ ਸਲਾਹਕਾਰ ਸਮੇਤ ਕਈ ਸੰਸਥਾਵਾਂ ਦੇ ਵਿਗਿਆਨੀਆਂ ਦੁਆਰਾ ਕਈ ਪ੍ਰਯੋਗਾਂ ਦੇ ਬਾਵਜੂਦ. ਗਰੁੱਪ [13], ਕੋਈ ਵੀ ਵਿਗਿਆਨੀ ਕੋਲਿਨਜ਼ ਦੁਆਰਾ ਦਾਅਵਾ ਕੀਤੀਆਂ ਗਈਆਂ ਹਾਲਤਾਂ ਦੇ ਤਹਿਤ ਇਸ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਦੇ ਯੋਗ ਨਹੀਂ ਹੋਇਆ ਹੈ, ਅਤੇ ਕੋਲਿਨਜ਼ ਨੇ ਇਸ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਦੀ ਹੋਂਦ ਨੂੰ ਸਾਬਤ ਕਰਨ ਲਈ ਮਜ਼ਬੂਤ ​​​​ਸਬੂਤ ਪ੍ਰਦਾਨ ਨਹੀਂ ਕੀਤਾ ਹੈ, ਕੋਲਿਨਜ਼ ਦੁਆਰਾ ਊਰਜਾ ਨੂੰ ਛੱਡਣ ਲਈ ਪ੍ਰੇਰਿਤ ਗਾਮਾ ਕਿਰਨਾਂ ਦੇ ਨਿਕਾਸ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਨ ਦਾ ਇੱਕ ਤਰੀਕਾ ਪ੍ਰਸਤਾਵਿਤ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ। Hf178m2 (hafnium 178m2) [15], ਪਰ ਦੂਜੇ ਵਿਗਿਆਨੀਆਂ ਨੇ ਸਿਧਾਂਤਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸਾਬਤ ਕੀਤਾ ਹੈ ਕਿ ਇਹ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਪ੍ਰਾਪਤ ਨਹੀਂ ਕੀਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ।[16] Hf178m2 (ਹੈਫਨਿਅਮ 178m2) ਅਕਾਦਮਿਕ ਭਾਈਚਾਰੇ ਵਿੱਚ ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਿਸ਼ਵਾਸ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਕਿ ਊਰਜਾ ਦਾ ਸਰੋਤ ਨਹੀਂ ਹੈ।

ਹੈਫਨੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ

ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ ਖੇਤਰ:

ਹੈਫਨੀਅਮ ਇਲੈਕਟ੍ਰੌਨਾਂ ਨੂੰ ਨਿਕਾਸ ਕਰਨ ਦੀ ਸਮਰੱਥਾ ਦੇ ਕਾਰਨ ਬਹੁਤ ਉਪਯੋਗੀ ਹੈ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਇਨਕੈਂਡੀਸੈਂਟ ਲੈਂਪਾਂ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਫਿਲਾਮੈਂਟ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਐਕਸ-ਰੇ ਟਿਊਬਾਂ ਲਈ ਕੈਥੋਡ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਹਾਈ-ਵੋਲਟੇਜ ਡਿਸਚਾਰਜ ਟਿਊਬਾਂ ਲਈ ਹੈਫ਼ਨੀਅਮ ਅਤੇ ਟੰਗਸਟਨ ਜਾਂ ਮੋਲੀਬਡੇਨਮ ਦੇ ਮਿਸ਼ਰਤ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡ ਵਜੋਂ ਵਰਤੇ ਜਾਂਦੇ ਹਨ।ਐਕਸ-ਰੇ ਲਈ ਕੈਥੋਡ ਅਤੇ ਟੰਗਸਟਨ ਵਾਇਰ ਨਿਰਮਾਣ ਉਦਯੋਗ ਵਿੱਚ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਸ਼ੁੱਧ ਹੈਫਨੀਅਮ ਇਸਦੀ ਪਲਾਸਟਿਕਤਾ, ਆਸਾਨ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ, ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਅਤੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਦੇ ਕਾਰਨ ਪ੍ਰਮਾਣੂ ਊਰਜਾ ਉਦਯੋਗ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਸਮੱਗਰੀ ਹੈ।ਹੈਫਨਿਅਮ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਵਿਸ਼ਾਲ ਥਰਮਲ ਨਿਊਟ੍ਰੌਨ ਕੈਪਚਰ ਕਰਾਸ-ਸੈਕਸ਼ਨ ਹੈ ਅਤੇ ਇੱਕ ਆਦਰਸ਼ ਨਿਊਟ੍ਰੌਨ ਸੋਖਕ ਹੈ, ਜਿਸਨੂੰ ਪਰਮਾਣੂ ਰਿਐਕਟਰਾਂ ਲਈ ਇੱਕ ਨਿਯੰਤਰਣ ਰਾਡ ਅਤੇ ਸੁਰੱਖਿਆ ਉਪਕਰਣ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਹੈਫਨੀਅਮ ਪਾਊਡਰ ਨੂੰ ਰਾਕੇਟ ਲਈ ਪ੍ਰੋਪੇਲੈਂਟ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਐਕਸ-ਰੇ ਟਿਊਬਾਂ ਦਾ ਕੈਥੋਡ ਬਿਜਲੀ ਉਦਯੋਗ ਵਿੱਚ ਬਣਾਇਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਹੈਫਨੀਅਮ ਅਲਾਏ ਰਾਕੇਟ ਨੋਜ਼ਲ ਅਤੇ ਗਲਾਈਡ ਰੀ-ਐਂਟਰੀ ਏਅਰਕ੍ਰਾਫਟ ਲਈ ਅੱਗੇ ਸੁਰੱਖਿਆ ਪਰਤ ਦੇ ਤੌਰ 'ਤੇ ਕੰਮ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਜਦੋਂ ਕਿ Hf Ta ਅਲਾਏ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਟੂਲ ਸਟੀਲ ਅਤੇ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਸਮੱਗਰੀ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਕੀਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ।ਹੈਫਨੀਅਮ ਨੂੰ ਗਰਮੀ-ਰੋਧਕ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਟੰਗਸਟਨ, ਮੋਲੀਬਡੇਨਮ ਅਤੇ ਟੈਂਟਲਮ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਜੋੜਨ ਵਾਲੇ ਤੱਤ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।HfC ਨੂੰ ਇਸਦੀ ਉੱਚ ਕਠੋਰਤਾ ਅਤੇ ਪਿਘਲਣ ਵਾਲੇ ਬਿੰਦੂ ਦੇ ਕਾਰਨ ਸਖਤ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਲਈ ਇੱਕ ਜੋੜ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।4TaCHfC ਦਾ ਪਿਘਲਣ ਵਾਲਾ ਬਿੰਦੂ ਲਗਭਗ 4215 ℃ ਹੈ, ਇਸ ਨੂੰ ਸਭ ਤੋਂ ਵੱਧ ਜਾਣੇ ਜਾਂਦੇ ਪਿਘਲਣ ਵਾਲੇ ਬਿੰਦੂ ਵਾਲਾ ਮਿਸ਼ਰਣ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ।ਹੈਫਨੀਅਮ ਨੂੰ ਕਈ ਮਹਿੰਗਾਈ ਪ੍ਰਣਾਲੀਆਂ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਗੈਟਰ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਹੈਫਨੀਅਮ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਵਾਲੇ ਸਿਸਟਮ ਵਿੱਚ ਮੌਜੂਦ ਆਕਸੀਜਨ ਅਤੇ ਨਾਈਟ੍ਰੋਜਨ ਵਰਗੀਆਂ ਬੇਲੋੜੀਆਂ ਗੈਸਾਂ ਨੂੰ ਹਟਾ ਸਕਦੇ ਹਨ।ਹੈਫਨਿਅਮ ਨੂੰ ਅਕਸਰ ਹਾਈਡ੍ਰੌਲਿਕ ਤੇਲ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਜੋੜ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਤਾਂ ਜੋ ਉੱਚ-ਜੋਖਮ ਵਾਲੇ ਕਾਰਜਾਂ ਦੌਰਾਨ ਹਾਈਡ੍ਰੌਲਿਕ ਤੇਲ ਦੀ ਅਸਥਿਰਤਾ ਨੂੰ ਰੋਕਿਆ ਜਾ ਸਕੇ, ਅਤੇ ਇਸ ਵਿੱਚ ਮਜ਼ਬੂਤ ​​ਵਿਰੋਧੀ ਅਸਥਿਰਤਾ ਗੁਣ ਹਨ।ਇਸ ਲਈ, ਇਹ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਉਦਯੋਗਿਕ ਹਾਈਡ੍ਰੌਲਿਕ ਤੇਲ ਵਿੱਚ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ.ਮੈਡੀਕਲ ਹਾਈਡ੍ਰੌਲਿਕ ਤੇਲ.

ਨਵੀਨਤਮ ਇੰਟੇਲ 45 ਨੈਨੋਪ੍ਰੋਸੈਸਰਾਂ ਵਿੱਚ ਵੀ ਹੈਫਨਿਅਮ ਐਲੀਮੈਂਟ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ।ਸਿਲੀਕਾਨ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ (SiO2) ਦੀ ਨਿਰਮਾਣਤਾ ਅਤੇ ਟਰਾਂਜ਼ਿਸਟਰ ਦੀ ਕਾਰਗੁਜ਼ਾਰੀ ਨੂੰ ਲਗਾਤਾਰ ਬਿਹਤਰ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਮੋਟਾਈ ਨੂੰ ਘਟਾਉਣ ਦੀ ਸਮਰੱਥਾ ਦੇ ਕਾਰਨ, ਪ੍ਰੋਸੈਸਰ ਨਿਰਮਾਤਾ ਗੇਟ ਡਾਈਲੈਕਟ੍ਰਿਕਸ ਲਈ ਸਮੱਗਰੀ ਵਜੋਂ ਸਿਲੀਕਾਨ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹਨ।ਜਦੋਂ ਇੰਟੈੱਲ ਨੇ 65 ਨੈਨੋਮੀਟਰ ਨਿਰਮਾਣ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੀ ਸ਼ੁਰੂਆਤ ਕੀਤੀ ਸੀ, ਹਾਲਾਂਕਿ ਇਸ ਨੇ ਸਿਲੀਕਾਨ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ ਗੇਟ ਡਾਈਇਲੈਕਟ੍ਰਿਕ ਦੀ ਮੋਟਾਈ ਨੂੰ 1.2 ਨੈਨੋਮੀਟਰ ਤੱਕ ਘਟਾਉਣ ਲਈ ਹਰ ਕੋਸ਼ਿਸ਼ ਕੀਤੀ ਸੀ, ਪਰਮਾਣੂਆਂ ਦੀਆਂ 5 ਪਰਤਾਂ ਦੇ ਬਰਾਬਰ, ਬਿਜਲੀ ਦੀ ਖਪਤ ਅਤੇ ਗਰਮੀ ਦੇ ਵਿਗਾੜ ਦੀ ਮੁਸ਼ਕਲ ਵੀ ਵਧ ਜਾਵੇਗੀ ਜਦੋਂ ਟਰਾਂਜ਼ਿਸਟਰ ਨੂੰ ਇੱਕ ਪਰਮਾਣੂ ਦੇ ਆਕਾਰ ਤੱਕ ਘਟਾ ਦਿੱਤਾ ਗਿਆ ਸੀ, ਜਿਸਦੇ ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਮੌਜੂਦਾ ਰਹਿੰਦ-ਖੂੰਹਦ ਅਤੇ ਬੇਲੋੜੀ ਤਾਪ ਊਰਜਾ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।ਇਸ ਲਈ, ਜੇਕਰ ਵਰਤਮਾਨ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਜਾਰੀ ਰੱਖੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਮੋਟਾਈ ਨੂੰ ਹੋਰ ਘਟਾ ਦਿੱਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ ਗੇਟ ਡਾਈਇਲੈਕਟ੍ਰਿਕ ਦਾ ਲੀਕੇਜ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਧੇਗਾ, ਟਰਾਂਜ਼ਿਸਟਰ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਨੂੰ ਇਸ ਦੀਆਂ ਸੀਮਾਵਾਂ ਤੱਕ ਲਿਆਉਂਦਾ ਹੈ।ਇਸ ਨਾਜ਼ੁਕ ਮੁੱਦੇ ਨੂੰ ਹੱਲ ਕਰਨ ਲਈ, ਇੰਟੈੱਲ ਸਿਲੀਕਾਨ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ ਦੀ ਬਜਾਏ ਮੋਟੇ ਉੱਚ ਕੇ ਸਮੱਗਰੀਆਂ (ਹੈਫਨੀਅਮ ਅਧਾਰਤ ਸਮੱਗਰੀ) ਨੂੰ ਗੇਟ ਡਾਈਇਲੈਕਟ੍ਰਿਕਸ ਵਜੋਂ ਵਰਤਣ ਦੀ ਯੋਜਨਾ ਬਣਾ ਰਿਹਾ ਹੈ, ਜਿਸ ਨੇ ਸਫਲਤਾਪੂਰਵਕ ਲੀਕੇਜ ਨੂੰ 10 ਗੁਣਾ ਤੋਂ ਵੱਧ ਘਟਾ ਦਿੱਤਾ ਹੈ।65nm ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਦੀ ਪਿਛਲੀ ਪੀੜ੍ਹੀ ਦੇ ਮੁਕਾਬਲੇ, Intel ਦੀ 45nm ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਟ੍ਰਾਂਜ਼ਿਸਟਰ ਦੀ ਘਣਤਾ ਨੂੰ ਲਗਭਗ ਦੋ ਗੁਣਾ ਵਧਾਉਂਦੀ ਹੈ, ਜਿਸ ਨਾਲ ਟਰਾਂਜ਼ਿਸਟਰਾਂ ਦੀ ਕੁੱਲ ਗਿਣਤੀ ਵਿੱਚ ਵਾਧਾ ਜਾਂ ਪ੍ਰੋਸੈਸਰ ਵਾਲੀਅਮ ਵਿੱਚ ਕਮੀ ਆਉਂਦੀ ਹੈ।ਇਸ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ, ਟਰਾਂਜ਼ਿਸਟਰ ਸਵਿਚਿੰਗ ਲਈ ਲੋੜੀਂਦੀ ਪਾਵਰ ਘੱਟ ਹੈ, ਜਿਸ ਨਾਲ ਬਿਜਲੀ ਦੀ ਖਪਤ ਲਗਭਗ 30% ਘਟਦੀ ਹੈ।ਅੰਦਰੂਨੀ ਕੁਨੈਕਸ਼ਨ ਤਾਂਬੇ ਦੀਆਂ ਤਾਰਾਂ ਦੇ ਬਣੇ ਹੁੰਦੇ ਹਨ ਜੋ ਘੱਟ k ਡਾਈਇਲੈਕਟ੍ਰਿਕ ਨਾਲ ਜੋੜਦੇ ਹਨ, ਸੁਚਾਰੂ ਢੰਗ ਨਾਲ ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ ਕਰਦੇ ਹਨ ਅਤੇ ਬਿਜਲੀ ਦੀ ਖਪਤ ਨੂੰ ਘਟਾਉਂਦੇ ਹਨ, ਅਤੇ ਸਵਿਚਿੰਗ ਸਪੀਡ ਲਗਭਗ 20% ਤੇਜ਼ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।

ਖਣਿਜ ਵੰਡ:

ਹੈਫਨੀਅਮ ਵਿੱਚ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤੀਆਂ ਜਾਣ ਵਾਲੀਆਂ ਧਾਤਾਂ ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਬਿਸਮਥ, ਕੈਡਮੀਅਮ, ਅਤੇ ਪਾਰਾ ਨਾਲੋਂ ਉੱਚੀ ਕ੍ਰਸਟਲ ਭਰਪੂਰਤਾ ਹੁੰਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਇਹ ਬੇਰੀਲੀਅਮ, ਜਰਨੀਅਮ ਅਤੇ ਯੂਰੇਨੀਅਮ ਦੇ ਬਰਾਬਰ ਹੈ।ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਵਾਲੇ ਸਾਰੇ ਖਣਿਜਾਂ ਵਿੱਚ ਹੈਫਨੀਅਮ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।ਉਦਯੋਗ ਵਿੱਚ ਵਰਤੇ ਜਾਣ ਵਾਲੇ ਜ਼ੀਰਕੋਨ ਵਿੱਚ 0.5-2% ਹੈਫਨੀਅਮ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।ਸੈਕੰਡਰੀ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਧਾਤ ਵਿੱਚ ਬੇਰੀਲੀਅਮ ਜ਼ੀਰਕੋਨ (ਅਲਵਾਈਟ) ਵਿੱਚ 15% ਤੱਕ ਹੈਫਨੀਅਮ ਹੋ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਇੱਕ ਕਿਸਮ ਦਾ ਮੈਟਾਮੋਰਫਿਕ ਜ਼ੀਰਕੋਨ, ਸਾਈਰਟੋਲਾਈਟ ਵੀ ਹੈ, ਜਿਸ ਵਿੱਚ 5% ਤੋਂ ਵੱਧ HfO ਹੁੰਦਾ ਹੈ।ਬਾਅਦ ਵਾਲੇ ਦੋ ਖਣਿਜਾਂ ਦੇ ਭੰਡਾਰ ਛੋਟੇ ਹਨ ਅਤੇ ਅਜੇ ਤੱਕ ਉਦਯੋਗ ਵਿੱਚ ਨਹੀਂ ਅਪਣਾਏ ਗਏ ਹਨ।ਹੈਫਨੀਅਮ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਦੇ ਉਤਪਾਦਨ ਦੌਰਾਨ ਬਰਾਮਦ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।

ਹੈਫਨੀਅਮ:

ਇਹ ਜ਼ਿਆਦਾਤਰ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਧਾਤ ਵਿੱਚ ਮੌਜੂਦ ਹੈ।[18] [19] ਕਿਉਂਕਿ ਛਾਲੇ ਵਿੱਚ ਬਹੁਤ ਘੱਟ ਸਮੱਗਰੀ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।ਇਹ ਅਕਸਰ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਦੇ ਨਾਲ ਮੌਜੂਦ ਹੁੰਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਇਸਦਾ ਕੋਈ ਵੱਖਰਾ ਧਾਤ ਨਹੀਂ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।

ਤਿਆਰੀ ਵਿਧੀ:

1. ਇਹ ਹੈਫਨੀਅਮ ਟੈਟਰਾਕਲੋਰਾਈਡ ਦੇ ਮੈਗਨੀਸ਼ੀਅਮ ਦੀ ਕਮੀ ਜਾਂ ਹੈਫਨੀਅਮ ਆਇਓਡਾਈਡ ਦੇ ਥਰਮਲ ਸੜਨ ਦੁਆਰਾ ਤਿਆਰ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।HfCl4 ਅਤੇ K2HfF6 ਨੂੰ ਕੱਚੇ ਮਾਲ ਵਜੋਂ ਵੀ ਵਰਤਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।NaCl KCl HfCl4 ਜਾਂ K2HfF6 ਪਿਘਲਣ ਵਿੱਚ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਉਤਪਾਦਨ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਦੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਉਤਪਾਦਨ ਦੇ ਸਮਾਨ ਹੈ।

2. ਹੈਫਨੀਅਮ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਦੇ ਨਾਲ ਮੌਜੂਦ ਹੈ, ਅਤੇ ਹੈਫਨੀਅਮ ਲਈ ਕੋਈ ਵੱਖਰਾ ਕੱਚਾ ਮਾਲ ਨਹੀਂ ਹੈ।ਹੈਫਨੀਅਮ ਦੇ ਨਿਰਮਾਣ ਲਈ ਕੱਚਾ ਮਾਲ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਦੇ ਨਿਰਮਾਣ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੌਰਾਨ ਵੱਖ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਕੱਚਾ ਹੈਫਨੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਹੈ।ਆਇਨ ਐਕਸਚੇਂਜ ਰੈਜ਼ਿਨ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹੋਏ ਹੈਫਨੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਨੂੰ ਐਕਸਟਰੈਕਟ ਕਰੋ, ਅਤੇ ਫਿਰ ਇਸ ਹੈਫਨੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਤੋਂ ਮੈਟਲ ਹੈਫਨੀਅਮ ਤਿਆਰ ਕਰਨ ਲਈ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਵਰਗੀ ਵਿਧੀ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰੋ।

3. ਇਸਨੂੰ ਘਟਾ ਕੇ ਸੋਡੀਅਮ ਦੇ ਨਾਲ ਹੈਫਨੀਅਮ ਟੈਟਰਾਕਲੋਰਾਈਡ (HfCl4) ਨੂੰ ਕੋ-ਹੀਟਿੰਗ ਕਰਕੇ ਤਿਆਰ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।

ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਅਤੇ ਹੈਫਨਿਅਮ ਨੂੰ ਵੱਖ ਕਰਨ ਦੇ ਸਭ ਤੋਂ ਪੁਰਾਣੇ ਤਰੀਕੇ ਫਲੋਰੀਨੇਟਿਡ ਗੁੰਝਲਦਾਰ ਲੂਣਾਂ ਦਾ ਫ੍ਰੈਕਸ਼ਨਲ ਕ੍ਰਿਸਟਾਲਾਈਜ਼ੇਸ਼ਨ ਅਤੇ ਫਾਸਫੇਟਸ ਦਾ ਅੰਸ਼ਿਕ ਵਰਖਾ ਸਨ।ਇਹ ਵਿਧੀਆਂ ਚਲਾਉਣ ਲਈ ਔਖੀਆਂ ਹਨ ਅਤੇ ਪ੍ਰਯੋਗਸ਼ਾਲਾ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਤੱਕ ਸੀਮਿਤ ਹਨ।ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਅਤੇ ਹੈਫਨੀਅਮ ਨੂੰ ਵੱਖ ਕਰਨ ਲਈ ਨਵੀਆਂ ਤਕਨੀਕਾਂ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਫਰੈਕਸ਼ਨੇਸ਼ਨ ਡਿਸਟਿਲੇਸ਼ਨ, ਘੋਲਨ ਕੱਢਣਾ, ਆਇਨ ਐਕਸਚੇਂਜ, ਅਤੇ ਫਰੈਕਸ਼ਨੇਸ਼ਨ ਸੋਸ਼ਣ, ਇੱਕ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਇੱਕ ਉਭਰ ਕੇ ਸਾਹਮਣੇ ਆਈਆਂ ਹਨ, ਘੋਲਨ ਕੱਢਣਾ ਵਧੇਰੇ ਵਿਹਾਰਕ ਹੈ।ਦੋ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤੇ ਜਾਣ ਵਾਲੇ ਵਿਭਾਜਨ ਪ੍ਰਣਾਲੀਆਂ ਹਨ ਥਿਓਸਾਈਨੇਟ ਸਾਈਕਲੋਹੈਕਸੈਨੋਨ ਪ੍ਰਣਾਲੀ ਅਤੇ ਟ੍ਰਿਬਾਇਲ ਫਾਸਫੇਟ ਨਾਈਟ੍ਰਿਕ ਐਸਿਡ ਪ੍ਰਣਾਲੀ।ਉਪਰੋਕਤ ਤਰੀਕਿਆਂ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੇ ਉਤਪਾਦ ਸਾਰੇ ਹੈਫਨੀਅਮ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਾਈਡ ਹਨ, ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧ ਹੈਫਨੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਕੈਲਸੀਨੇਸ਼ਨ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਹੈਫਨੀਅਮ ਆਇਨ ਐਕਸਚੇਂਜ ਵਿਧੀ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।

ਉਦਯੋਗ ਵਿੱਚ, ਧਾਤੂ ਹੈਫਨੀਅਮ ਦੇ ਉਤਪਾਦਨ ਵਿੱਚ ਅਕਸਰ ਕ੍ਰੋਲ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਅਤੇ ਡੇਬੋਰ ਅਕਰ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੋਵੇਂ ਸ਼ਾਮਲ ਹੁੰਦੇ ਹਨ।ਕ੍ਰੋਲ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਵਿੱਚ ਮੈਟਲਿਕ ਮੈਗਨੀਸ਼ੀਅਮ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹੋਏ ਹੈਫਨੀਅਮ ਟੈਟਰਾਕਲੋਰਾਈਡ ਨੂੰ ਘਟਾਉਣਾ ਸ਼ਾਮਲ ਹੈ:

2Mg+HfCl4- → 2MgCl2+Hf

ਡੇਬੋਰ ਅਕਰ ਵਿਧੀ, ਜਿਸਨੂੰ ਆਇਓਡੀਜ਼ੇਸ਼ਨ ਵਿਧੀ ਵੀ ਕਿਹਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਹੈਫਨੀਅਮ ਵਰਗੇ ਸਪੰਜ ਨੂੰ ਸ਼ੁੱਧ ਕਰਨ ਅਤੇ ਖਰਾਬ ਧਾਤ ਹੈਫਨੀਅਮ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ।

5. ਹੈਫਨੀਅਮ ਦੀ ਪਿਘਲਣਾ ਅਸਲ ਵਿੱਚ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਦੇ ਸਮਾਨ ਹੈ:

ਪਹਿਲਾ ਕਦਮ ਧਾਤ ਦਾ ਸੜਨ ਹੈ, ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਤਿੰਨ ਤਰੀਕੇ ਸ਼ਾਮਲ ਹਨ: (Zr, Hf) Cl ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਜ਼ੀਰਕੋਨ ਦੀ ਕਲੋਰੀਨੇਸ਼ਨ।ਜ਼ੀਰਕੋਨ ਦਾ ਅਲਕਲੀ ਪਿਘਲਣਾ.ਜ਼ੀਰਕੋਨ ਲਗਭਗ 600 'ਤੇ NaOH ਨਾਲ ਪਿਘਲ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ (Zr, Hf) O ਦਾ 90% ਤੋਂ ਵੱਧ Na (Zr, Hf) O ਵਿੱਚ ਬਦਲ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, SiO NaSiO ਵਿੱਚ ਬਦਲ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਹਟਾਉਣ ਲਈ ਪਾਣੀ ਵਿੱਚ ਘੁਲ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।Na (Zr, Hf) O ਨੂੰ HNO ਵਿੱਚ ਘੁਲਣ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਅਤੇ ਹੈਫਨੀਅਮ ਨੂੰ ਵੱਖ ਕਰਨ ਲਈ ਮੂਲ ਹੱਲ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਹਾਲਾਂਕਿ, SiO ਕੋਲਾਇਡ ਦੀ ਮੌਜੂਦਗੀ ਘੋਲਨ ਵਾਲੇ ਕੱਢਣ ਨੂੰ ਵੱਖ ਕਰਨਾ ਮੁਸ਼ਕਲ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ।KSiF ਨਾਲ ਸਿੰਟਰ ਅਤੇ K (Zr, Hf) F ਘੋਲ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਪਾਣੀ ਵਿੱਚ ਭਿਓ ਦਿਓ।ਘੋਲ ਫਰੈਕਸ਼ਨਲ ਕ੍ਰਿਸਟਲਾਈਜ਼ੇਸ਼ਨ ਦੁਆਰਾ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਅਤੇ ਹੈਫਨੀਅਮ ਨੂੰ ਵੱਖ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ;

ਦੂਜਾ ਕਦਮ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਅਤੇ ਹੈਫਨੀਅਮ ਦਾ ਵੱਖ ਹੋਣਾ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਲੋਰਿਕ ਐਸਿਡ MIBK (ਮਿਥਾਈਲ ਆਈਸੋਬਿਊਟਿਲ ਕੀਟੋਨ) ਪ੍ਰਣਾਲੀ ਅਤੇ HNO-TBP (ਟ੍ਰਿਬਿਊਟਾਇਲ ਫਾਸਫੇਟ) ਪ੍ਰਣਾਲੀ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹੋਏ ਘੋਲਨ ਵਾਲੇ ਕੱਢਣ ਦੇ ਤਰੀਕਿਆਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਕੇ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਉੱਚ ਦਬਾਅ (20 ਵਾਯੂਮੰਡਲ ਤੋਂ ਉੱਪਰ) ਵਿੱਚ ਪਿਘਲਦੇ HfCl ਅਤੇ ZrCl ਵਿਚਕਾਰ ਭਾਫ਼ ਦੇ ਦਬਾਅ ਵਿੱਚ ਅੰਤਰ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹੋਏ ਮਲਟੀ-ਸਟੇਜ ਫਰੈਕਸ਼ਨੇਸ਼ਨ ਦੀ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਦਾ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਤੋਂ ਅਧਿਐਨ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ, ਜੋ ਸੈਕੰਡਰੀ ਕਲੋਰੀਨੇਸ਼ਨ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਨੂੰ ਬਚਾ ਸਕਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਲਾਗਤਾਂ ਨੂੰ ਘਟਾ ਸਕਦੀ ਹੈ।ਹਾਲਾਂਕਿ, (Zr, Hf) Cl ਅਤੇ HCl ਦੀ ਖੋਰ ਦੀ ਸਮੱਸਿਆ ਦੇ ਕਾਰਨ, ਢੁਕਵੇਂ ਫਰੈਕਸ਼ਨੇਸ਼ਨ ਕਾਲਮ ਸਮੱਗਰੀ ਨੂੰ ਲੱਭਣਾ ਆਸਾਨ ਨਹੀਂ ਹੈ, ਅਤੇ ਇਹ ZrCl ਅਤੇ HfCl ਦੀ ਗੁਣਵੱਤਾ ਨੂੰ ਵੀ ਘਟਾਏਗਾ, ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਦੀ ਲਾਗਤ ਵਧੇਗੀ।1970 ਦੇ ਦਹਾਕੇ ਵਿੱਚ, ਇਹ ਅਜੇ ਵੀ ਇੰਟਰਮੀਡੀਏਟ ਪਲਾਂਟ ਟੈਸਟਿੰਗ ਪੜਾਅ ਵਿੱਚ ਸੀ;

ਤੀਜਾ ਕਦਮ ਹੈ ਕਟੌਤੀ ਲਈ ਕੱਚਾ HfCl ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ HfO ਦਾ ਸੈਕੰਡਰੀ ਕਲੋਰੀਨੇਸ਼ਨ;

ਚੌਥਾ ਕਦਮ ਐਚਐਫਸੀਐਲ ਅਤੇ ਮੈਗਨੀਸ਼ੀਅਮ ਦੀ ਕਮੀ ਦਾ ਸ਼ੁੱਧੀਕਰਨ ਹੈ।ਇਹ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ZrCl ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਅਤੇ ਕਟੌਤੀ ਦੇ ਸਮਾਨ ਹੈ, ਅਤੇ ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਅਰਧ-ਮੁਕੰਮਲ ਉਤਪਾਦ ਮੋਟੇ ਸਪੰਜ ਹੈਫਨੀਅਮ ਹੈ;

ਪੰਜਵਾਂ ਕਦਮ MgCl ਨੂੰ ਹਟਾਉਣ ਅਤੇ ਵਾਧੂ ਮੈਟਲ ਮੈਗਨੀਸ਼ੀਅਮ ਨੂੰ ਮੁੜ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਡਿਸਟਿਲ ਕੱਚੇ ਸਪੰਜ ਹੈਫਨੀਅਮ ਨੂੰ ਵੈਕਿਊਮ ਕਰਨਾ ਹੈ, ਜਿਸ ਦੇ ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਸਪੰਜ ਮੈਟਲ ਹੈਫਨੀਅਮ ਦਾ ਮੁਕੰਮਲ ਉਤਪਾਦ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।ਜੇਕਰ ਘਟਾਉਣ ਵਾਲਾ ਏਜੰਟ ਮੈਗਨੀਸ਼ੀਅਮ ਦੀ ਬਜਾਏ ਸੋਡੀਅਮ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ ਪੰਜਵੇਂ ਪੜਾਅ ਨੂੰ ਪਾਣੀ ਵਿੱਚ ਡੁੱਬਣ ਵਿੱਚ ਬਦਲਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ

ਸਟੋਰੇਜ ਵਿਧੀ:

ਇੱਕ ਠੰਡੇ ਅਤੇ ਹਵਾਦਾਰ ਗੋਦਾਮ ਵਿੱਚ ਸਟੋਰ ਕਰੋ।ਚੰਗਿਆੜੀਆਂ ਅਤੇ ਗਰਮੀ ਦੇ ਸਰੋਤਾਂ ਤੋਂ ਦੂਰ ਰਹੋ।ਇਸ ਨੂੰ ਆਕਸੀਡੈਂਟ, ਐਸਿਡ, ਹੈਲੋਜਨ ਆਦਿ ਤੋਂ ਵੱਖਰੇ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸਟੋਰ ਕੀਤਾ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਮਿਕਸ ਸਟੋਰੇਜ ਤੋਂ ਬਚਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ।ਵਿਸਫੋਟ-ਪ੍ਰੂਫ ਰੋਸ਼ਨੀ ਅਤੇ ਹਵਾਦਾਰੀ ਸਹੂਲਤਾਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਨਾ।ਮਕੈਨੀਕਲ ਸਾਜ਼ੋ-ਸਾਮਾਨ ਅਤੇ ਸਾਧਨਾਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ 'ਤੇ ਪਾਬੰਦੀ ਲਗਾਓ ਜੋ ਚੰਗਿਆੜੀਆਂ ਦੀ ਸੰਭਾਵਨਾ ਵਾਲੇ ਹਨ।ਸਟੋਰੇਜ ਖੇਤਰ ਨੂੰ ਲੀਕ ਰੱਖਣ ਲਈ ਢੁਕਵੀਂ ਸਮੱਗਰੀ ਨਾਲ ਲੈਸ ਹੋਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ।