Niobium Silicide NbSi2 poud Pri

Karakteristik nanSilisid niobyòm

Spesifikasyon pwodwi nanSilisid niobyòmpoud

Nano klas (99.9%): 10nm, 20nm, 30nm, 40nm, 50nm, 80nm, 100nm, 200nm, 300nm, 500nm, 800nm.

Mikwo klas (99.9%): 1um,3um,5um,10um,20um,30um,40nm,45um,75um,150um,200um,300um.

Paramèt NiSi2 yo jan sa a:
Konpozisyon chimik: Si: 4.3%，Mg:0.1%, rès la se Ni

Dansite: 8.585g/cm3

Rezistans: 0.365 Q mm2 / M
Rezistans tanperati koyefisyan (20-100 ° C) 689x10 mwens 6yèm pouvwa / KKoefisyan ekspansyon tèmik (20-100 ° C) 17x10 mwens 6yèm pouvwa / K
Tèmik konduktiviti (100 ° C) 27xwm negatif premye pouvwa K negatif premye pouvwa Pwen fizyon: 1309 ° c
Jaden aplikasyon:
Silisyòm se materyèl ki pi lajman itilize semi-conducteurs.Yo te etidye yon varyete de silikid metal pou teknoloji kontak ak entèkoneksyon nan aparèy semi-conducteurs. ,Pasivasyon ak entèrkonèksyon nan aparèy Silisyòm, NiSi, kòm materyèl silisid ki pi pwomèt pwòp tèt ou-aliyen pou aparèy nano-echèl, te lajman etidye pou pèt Silisyòm ki ba li yo ak bidjè ba fòmasyon chalè, rezistivite ki ba epi pa gen okenn efè linewidth Nan elektwòd grafèn, silisid nikèl ka retade. ensidan an nan pulverizasyon ak fann nan elektwòd Silisyòm, ak amelyore konduktiviti nan elektwòd la. Efè mouye ak gaye nan alyaj nisi2 sou seramik SiC nan diferan
yo te envestige tanperati ak atmosfè.