Niobium Silicide NbSi2 poeier Prys

Kenmerk vanNiobium silicide

Produk spesifikasie vanNiobium silicidepoeier

Nanograad (99.9%): 10nm, 20nm, 30nm, 40nm, 50nm, 80nm, 100nm, 200nm, 300nm, 500nm, 800nm.

Mikrograad (99.9%): 1um, 3um, 5um, 10um, 20um, 30um, 40nm, 45um, 75um, 150um, 200um, 300um.

Die parameters van NiSi2 is soos volg:
Chemiese samestelling: Si: 4,3%, Mg: 0,1%, die res is Ni

Digtheid: 8,585 g/cm3

Weerstand: 0,365 Q mm2 / M
Weerstandtemperatuurkoëffisiënt (20-100 ° C) 689x10 minus 6de drywing / K Koëffisiënt van termiese uitsetting (20-100 ° C) 17x10 minus 6de drywing / K
Termiese geleiding (100° C)27xwm negatiewe eerste krag K negatiewe eerste krag Smeltpunt: 1309 °c
Aansoek velde:
Silikon is die mees gebruikte halfgeleiermateriaal.'n Verskeidenheid metaalsilicides is bestudeer vir kontak- en interkonneksietegnologie van halfgeleiertoestelle.MoSi2, WSl enNi2Si is bekendgestel in die ontwikkeling van mikro-elektroniese toestelle. Hierdie silikongebaseerde dunfilms pas goed by silikonmateriale en kan gebruik word vir isolasie, isolasie ,passivering en interkonneksie in silikontoestelle, NiSi, as die mees belowende selfbelynde siliciummateriaal vir nanoskaaltoestelle, is wyd bestudeer vir sy lae silikonverlies en lae vorminghittebegroting, lae weerstand en geen lynwydte-effek In grafeenelektrode kan nikkelsilicied die voorkoms van verpulvering en krake van silikonelektrode, en verbeter die geleidingsvermoë van die elektrode. Die benattings- en verspreidingseffekte van nisi2-legering op SiC-keramiek by verskillende
temperature en atmosfeer is ondersoek.