నియోబియం సిలిసైడ్ NbSi2 పౌడర్ ధర

యొక్క లక్షణంనియోబియం సిలిసైడ్

యొక్క ఉత్పత్తి వివరణనియోబియం సిలిసైడ్పొడి

నానో గ్రేడ్(99.9%):10nm,20nm,30nm,40nm,50nm,80nm,100nm,200nm,300nm,500nm,800nm.

మైక్రో గ్రేడ్(99.9%):1um,3um,5um,10um,20um,30um,40nm,45um,75um,150um,200um,300um.

NiSi2 యొక్క పారామితులు క్రింది విధంగా ఉన్నాయి:
రసాయన కూర్పు: Si: 4.3%，Mg: 0.1%, మిగిలినది Ni

సాంద్రత: 8.585g/cm3

ప్రతిఘటన: 0.365 Q mm2 / M
ప్రతిఘటన ఉష్ణోగ్రత గుణకం(20-100 ° C)689x10 మైనస్ 6వ పవర్ / థర్మల్ విస్తరణ యొక్క కెకోఎఫీషియంట్ (20-100° C)17x10 మైనస్ 6వ పవర్ / K
ఉష్ణ వాహకత (100° C)27xwm నెగటివ్ ఫస్ట్ పవర్ K నెగటివ్ ఫస్ట్ పవర్ మెల్టింగ్ పాయింట్: 1309 °c
అప్లికేషన్ ఫీల్డ్‌లు:
సిలికాన్ అత్యంత విస్తృతంగా ఉపయోగించే సెమీకండక్టర్ పదార్థాలు.సెమీకండక్టర్ పరికరాల సంపర్కం మరియు ఇంటర్‌కనెక్ట్ టెక్నాలజీ కోసం వివిధ రకాల మెటల్ సిలిసైడ్‌లు అధ్యయనం చేయబడ్డాయి. మైక్రోఎలక్ట్రానిక్ పరికరాల అభివృద్ధిలో MoSi2, WSl మరియు Ni2Si ప్రవేశపెట్టబడ్డాయి. ఈ సిలికాన్-ఆధారిత థిన్ ఫిల్మ్‌లు సిలికాన్ పదార్థాలతో మంచి సరిపోలికను కలిగి ఉంటాయి మరియు ఇన్సులేషన్, ఐసోలేషన్ కోసం ఉపయోగించవచ్చు. ,సిలికాన్ పరికరాలలో నిష్క్రియాత్మకత మరియు ఇంటర్‌కనెక్షన్,NiSi, నానోస్కేల్ పరికరాలకు అత్యంత ఆశాజనకమైన స్వీయ-సమలేఖన సిలిసైడ్ మెటీరియల్‌గా, దాని తక్కువ సిలికాన్ నష్టం మరియు తక్కువ ఫార్మేషన్‌హీట్ బడ్జెట్, తక్కువ రెసిస్టివిటీ మరియు లైన్‌విడ్త్ ప్రభావం లేని కారణంగా గ్రాఫేన్ ఎలక్ట్రోడ్‌లో, నికెల్ సిలిసైడ్ ఆలస్యం చేయగలదు. సిలికాన్ ఎలక్ట్రోడ్ యొక్క పల్వరైజేషన్ మరియు క్రాకింగ్ సంభవించడం మరియు ఎలక్ట్రోడ్ యొక్క వాహకతను మెరుగుపరచడం
ఉష్ణోగ్రతలు మరియు వాతావరణాలను పరిశోధించారు.