Niobio siliziuroa NbSi2 hautsa Prezioa

-ren ezaugarriaNiobio siliziuroa

Produktuen zehaztapenaNiobio siliziuroahautsa

Nano kalifikazioa (% 99,9): 10 nm, 20 nm, 30 nm, 40 nm, 50 nm, 80 nm, 100 nm, 200 nm, 300 nm, 500 nm, 800 nm.

Mikro kalifikazioa (% 99,9): 1um, 3um, 5um, 10um, 20um, 30um, 40nm, 45um, 75um, 150um, 200um, 300um.

NiSi2-ren parametroak hauek dira:
Konposizio kimikoa: Si:% 4,3, Mg:% 0,1, gainerakoa Ni da

Dentsitatea: 8,585g/cm3

Erresistentzia: 0,365 Q mm2 / M
Erresistentzia tenperatura koefizientea (20-100 °C)689x10 ken 6. potentzia / KHedapen termikoaren koefizientea (20-100 °C)17x10 ken 6. potentzia / K
Eroankortasun termikoa (100°C)27xwm lehen potentzia negatiboa K lehen potentzia negatiboa Fusio-puntua: 1309 °c
Aplikazio-eremuak:
Silizioa da gehien erabiltzen diren material erdieroaleak.Hainbat metal-siliziuro aztertu dira gailu erdieroaleen ukipen- eta interkonexio-teknologiarako. MoSi2, WSl eta Ni2Si gailu mikroelektronikoen garapenean sartu dira. Silizioan oinarritutako film mehe hauek bat etortzen dira silizioko materialekin, eta isolatzeko, isolatzeko erabil daitezke. Siliziozko gailuetan pasibazioa eta interkonexioa, NiSi, nanoeskalako gailuetarako silizio-material autolerrokaturik itxaropentsuena den heinean, oso aztertua izan da bere silizio-galera baxua eta eraketa-bero-aurrekontu baxuagatik, erresistentzia baxuagatik eta lerro zabalera-efekturik gabe. Silizio-elektrodoaren pulberizazioa eta pitzadura agertzea eta elektrodoaren eroankortasuna hobetzea.
tenperaturak eta atmosferak ikertu ziren.