Rega bubuk Niobium Silicid NbSi2

Fitur sakaNiobium silisida

Spesifikasi Produk KabNiobium silisidawêdakakêna

Nano kelas (99.9%): 10nm, 20nm, 30nm, 40nm, 50nm, 80nm, 100nm, 200nm, 300nm, 500nm, 800nm.

Kelas mikro (99.9%): 1um, 3um, 5um, 10um, 20um, 30um, 40nm, 45um, 75um, 150um, 200um, 300um.

Parameter NiSi2 minangka nderek:
Komposisi kimia: Si: 4,3%, Mg: 0,1%, sisa Ni

Kapadhetan: 8,585g/cm3

Resistance: 0,365 Q mm2 / M
Koefisien suhu tahan (20-100 ° C)689x10 dikurangi daya ke-6 / KCefisien ekspansi termal (20-100 ° C)17x10 dikurangi daya 6 / K
Konduktivitas termal (100° C)27xwm daya pertama negatif K daya pertama negatif Titik lebur: 1309 °c
Bidang aplikasi:
Silicon minangka bahan semikonduktor sing paling akeh digunakake.A macem-macem silicides logam wis sinau kanggo kontak lan teknologi interconnection saka piranti semikonduktor.MoSi2, WSl lan Ni2Si wis ngenalaken menyang pangembangan piranti microelectronic.Film tipis adhedhasar silikon iki duwe cocog apik karo bahan silikon, lan bisa digunakake kanggo jampel, isolasi. , passivation lan interkoneksi ing piranti silikon, NiSi, minangka silicidematerial poto-didadekake siji paling janjeni kanggo piranti nanoscale, wis akeh sinau kanggo mundhut silikon kurang lan budget panas formasi kurang, resistivitas kurang lan ora ana efek linewidth Ing elektroda graphene, silicide nikel bisa tundha. kedadean saka pulverization lan cracking saka silikon elektroda, lan nambah konduktivitas saka elektroda. Ing wetting lan nyebar efek saka nisi2 alloy ing SiC keramik ing beda.
suhu lan atmosfer padha diselidiki.