Preço do pó de siliceto de nióbio NbSi2

Recurso deSilicida de Nióbio

Especificação do produto deSilicida de Nióbiopó

Grau Nano (99,9%): 10nm,20nm,30nm,40nm,50nm,80nm,100nm,200nm,300nm,500nm,800nm.

Micrograu (99,9%):1um,3um,5um,10um,20um,30um,40nm,45um,75um,150um,200um,300um.

Os parâmetros do NiSi2 são os seguintes:
Composição química: Si: 4,3%,Mg:0,1%, o resto é Ni

Densidade: 8,585g/cm3

Resistência: 0,365 Q mm2/M
Coeficiente de temperatura de resistência (20-100 ° C)689x10 menos 6ª potência / KCoeficiente de expansão térmica (20-100° C)17x10 menos 6ª potência / K
Condutividade térmica (100° C)27xwm primeira potência negativa K primeira potência negativa Ponto de fusão: 1309 °c
Campos de aplicação:
O silício é o material semicondutor mais utilizado.Uma variedade de silicietos metálicos foram estudados para tecnologia de contato e interconexão de dispositivos semicondutores. MoSi2, WSl e Ni2Si foram introduzidos no desenvolvimento de dispositivos microeletrônicos. Esses filmes finos à base de silício têm boa combinação com materiais de silício e podem ser usados ​​para isolamento, isolamento ,passivação e interconexão em dispositivos de silício,NiSi, como o material de siliceto autoalinhado mais promissor para dispositivos em nanoescala, tem sido amplamente estudado por sua baixa perda de silício e baixo orçamento de formação de calor, baixa resistividade e nenhum efeito de largura de linha. No eletrodo de grafeno, o siliceto de níquel pode atrasar o ocorrência de pulverização e rachadura do eletrodo de silício, e melhorar a condutividade do eletrodo. Os efeitos de umedecimento e espalhamento da liga nisi2 na cerâmica SiC em diferentes
temperaturas e atmosferas foram investigadas.