Niobsilizid NbSi2-Pulver Preis

Merkmal vonNiobsilizid

Produktspezifikation vonNiobsilizidPulver

Nanoqualität (99,9 %): 10 nm, 20 nm, 30 nm, 40 nm, 50 nm, 80 nm, 100 nm, 200 nm, 300 nm, 500 nm, 800 nm.

Mikroqualität (99,9 %): 1 um, 3 um, 5 um, 10 um, 20 um, 30 um, 40 nm, 45 um, 75 um, 150 um, 200 um, 300 um.

Die Parameter von NiSi2 sind wie folgt:
Chemische Zusammensetzung: Si: 4,3 %, Mg: 0,1 %, der Rest ist Ni

Dichte: 8,585 g/cm3

Widerstand: 0,365 Q mm2 / M
Widerstandstemperaturkoeffizient (20–100 °C) 689 x 10 minus 6. Potenz/K. Wärmeausdehnungskoeffizient (20–100 °C) 17 x 10 minus 6. Potenz/K
Wärmeleitfähigkeit (100° C)27xwm negative erste Potenz K negative erste PotenzSchmelzpunkt: 1309 °C
Anwendungsgebiete:
Silizium ist das am häufigsten verwendete Halbleitermaterial.Eine Vielzahl von Metallsiliziden wurde für die Kontakt- und Verbindungstechnologie von Halbleiterbauelementen untersucht. MoSi2, WSl und Ni2Si wurden in die Entwicklung mikroelektronischer Bauelemente eingeführt. Diese siliziumbasierten Dünnfilme passen gut zu Siliziummaterialien und können zur Isolierung und Isolierung verwendet werden ,Passivierung und Verbindung in Siliziumbauelementen: NiSi, als das vielversprechendste selbstausrichtende Silizidmaterial für nanoskalige Bauelemente, wurde umfassend auf seinen geringen Siliziumverlust und sein geringes Bildungswärmebudget, seinen geringen spezifischen Widerstand und keinen Linienbreiteneffekt untersucht. In Graphenelektroden kann Nickelsilizid die Verzögerung verzögern Auftreten von Pulverisierung und Rissbildung der Siliziumelektrode und Verbesserung der Leitfähigkeit der Elektrode. Die Benetzungs- und Ausbreitungseffekte der Nisi2-Legierung auf SiC-Keramiken sind unterschiedlich
Temperaturen und Atmosphären wurden untersucht.