Niobium Silicide NbSi2 порошогы бәясе

ЗенчәлегеНиобий Силицид

Продукция спецификасыНиобий Силицидпорошок

Нано класс (99,9%): 10нм, 20нм, 30нм, 40нм, 50нм, 80нм, 100нм, 200нм, 300нм, 500нм, 800нм.

Микро класс (99,9%): 1ум, 3ум, 5ум, 10ум, 20ум, 30ум, 40нм, 45ум, 75ум, 150ум, 200ум, 300ум.

NiSi2 параметрлары түбәндәгечә:
Химик состав: Si: 4,3% ， Mg: 0,1%, калганы Ni

Тыгызлыгы: 8.585г / см3

Каршылык: 0,365 Q мм2 / М.
Каршылык температурасы коэффициенты (20-100 ° C) 689х10 минус 6 көч / КК җылылык киңәю коэффициенты (20-100 ° C) 17х10 минус 6 көч / К
Rылылык үткәрүчәнлеге (100 ° C) 27хвм тискәре беренче көч К тискәре беренче көч Эретү ноктасы: 1309 ° с
Заявка кырлары:
Кремний - иң киң кулланылган ярымүткәргеч материаллар.Ярымүткәргеч җайланмаларның контакт һәм үзара бәйләнеш технологиясе өчен төрле металл силицидлар өйрәнелгән .MoSi2, WSl һәмNi2Si микроэлектрон җайланмалар үсешенә кертелгән. Бу кремний нигезендәге фильмнар кремний материаллары белән яхшы туры килә, һәм изоляция, изоляция өчен кулланылырга мөмкин. , кремний җайланмаларында пассивлаштыру һәм үзара бәйләнеш, NiSi, наноскаль җайланмалар өчен иң перспективалы үз-үзен тигезләнгән силикидематериал буларак, аз кремний югалуы һәм түбән формалашу бюджеты, түбән каршылыклылыгы һәм сызык киңлеге эффекты өчен киң өйрәнелгән, графен электродында никель силицид тоткарланырга мөмкин. кремний электродның пульверизациясе һәм ярылуы барлыкка килү, һәм электродның үткәрүчәнлеген яхшырту. Nisi2 эретмәсенең SiC керамикасына сугару һәм тарату эффектлары.
температура һәм атмосфера тикшерелде.